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中国科技论文在线
PECVD 实现大面积薄膜均匀沉的关键工艺
余冬冬*
（上海建冶环保科技股份有限公司）
5 摘要：等离子体增强型化学气相沉积（PECVD ）是当前薄膜太阳能电池的关键制备技术之
一，如何实现大面积沉膜的均匀性，提高薄膜电池的效率及稳定性，是PECVD 未来发
展的重要方向。本文以大面积电容耦合PECVD 为研究对象，对电场、温度场、流体场
这三个影响沉膜均匀性的关键因素，结合模拟运算进行了理论分析，以期为实现大面积
10 均匀沉膜提供理论指引。
关键词：PECVD;薄膜沉积;均匀性
中图分类号：0484
The key process of uniform thin film deposition in large area
15 by PECVD
Yu Dongdong
(Shanghai Janye Sci Tech Co., Ltd.)
Abstract: Plasma enhanced chemical vapor deposition （PECVD ）is one of the key technology
about the thin film solar cell right now. How to implement the uniformity of large area thin
20 film, improve the efficiency and stability of film cell is the most important direction of the
future PECVD. In this article, we analyze the influence of electric field, temperature field,
fluid field; combine with the results of simulation analysis, in order to provide theoretical
guidance for the uniformity of large area thin film depositioned by PECVD.
Key words: PECVD; thin film deposition; uniformity
25
0 引言
近年来，PECVD 法制备大面积薄膜技术在太阳能电池领域越来越受到重视，其主要
优点是沉积速率高，能够实现大面积沉膜，以满足工业化生产要求。但大面积成膜的均
作者简介：余冬冬（ 1985- ），男， 工程师，主要研究方向：非晶硅薄膜材料和器件 . E-mail:
yudongdong0911@126.com
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匀性问题，是超精细沉膜工艺的主要技术
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