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高稳定薄膜电阻技术及其应用.pdf
No．4 微处理机 第4期
Aug．，2008 MICROPROCESSORS 2008年8月
高稳定薄膜电阻技术及其应用
张丽，姜立娟
(中国电子科技集团公司第四十七研究所，沈阳110032)
摘 要：首先对有关薄膜电阻的理论作了一定的探讨，得出薄膜电阻随电阻率的增加，其温度
系数将会减小；在一定厚度范围内薄膜厚度减小，其温度系数减小；适当的成膜工艺能控制和改善
电阻的温度系数的结论。给出了制备薄膜电阻的试验方法(调整薄膜的淀积条件以获得高质量的
薄膜，再通过热处理激活)及试验结果，对影响电阻特性及稳定性的一些条件进行了讨论，并探讨
了高稳定薄膜电阻技术在集成电路中的应用前景。该工艺现已在双极和MOS电路中得到了很好
的应用，拥有更快、更好的发展前景。
关键词：薄膜电阻；高精度；高稳定
中图分类号：TN306文献标识码：A
oftheThinF¨mResistor andits
HighStability TechnologyApplications
ZHANG
Li，JIANGLi—juall
47thResearch 110032，Ch／na)
(The Institute矿ChinaEzec打D，l洒TechnologyGroupCorporation，Shenyang
mma certain filmresistors
articleontheresistanceoftllethin of thin
Abstract：This theory．the
comewiththeincreaseintherateof willreducethe certain
coefficient；a
resistance，which temperature
of of filmthickness coefficient
rangethicknessthe decreases，thetemperature decreases；asappropriate
Membrane tocontroland the coefficientofresistance
technology improvetemperature conclusion．Prepa-
ration thefilmtheresistancetest thefilm conditionsinordertoobtain
gives method(to deposition
adjust
thenactivatedheat theresultsoftestsonthe resistance
films．and
high—quality by treatment)and impact
characteristicsand ofanumberofconditionswerediscusse
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