离子束溅射制备立方C-N化合物.pdfVIP

第36卷第11期 仓扁学坂 V01．36NO．11 0 ACTAMETALLURGICASINICA November2 000 2 00年11月 离子束溅射制备立方c—N化合物 王天生-，z) 于栋利·) 田永君·，。) 何巨龙·) 李东春-) 李林z) 1)燕山大学材料科学与化学工程学院，秦皇岛066004 2)中国科学院物理研究所，北京100080 摘 要 N的键合状态，用透射电镜观察薄膜中的相形貌，用电子衍射和X射线衍射的方法分析相的结构．结果表明，CN。层中主要 am的晶体颗粒，其衍射数据可用立方 有N—s矿c和N—s矿c两种键合状态，薄膜中观察到的c—N化合物尺寸为10一60 C3N4结构标定，证实了该薄膜中存在立方C3N4化合物 关键词 C—N化合物，离子束溅射 中图法分类号TB43，TB321文献标识码 A ． BYIoN CUBICC—NCoMPoUNDPREPARED BEAMSPUTTERING WANG L舻) Tianshengl,2)，YUDongli¨，TIANYongjunl，引，HEJulong¨，LIDongchun¨，LI ofMaterialsScienceandChemical 066004 1)College Engineering，YanshanUniversity，Qinhuangdao of Chinese of 100080 Physics，TheAcademySciences，Beijing 2)Institute Correspondent：TIAN received revisedform2000-07-12 Manuscript1999-ii-15，in ABSTRAcT filmswere a ionbeaminsitu CN。／TiNt，multilayerpreparedby nitrogen sputter— titaniumand C—N statesof C alternatively．Twobonding CNzlayer，N—sp2 ing graphitetargets and beendefined ofC—Ncorn— N——sp3C，have byX—rayphotoelectronspectroscopy．Themorphology observedtransmissionelectron is withsizesof10—60am．Electron pounds by microscopyparticle—like diffractionand difiractionshowcubic existsinthefilm． X—ray C3N4 KEYWoRDSC—N beam compound．ionsputtering