VHF-PECVD制备不同衬底温度微晶硅薄膜结构研究.pdfVIP

第 期 电 子 学 报 Vol . 33 No .5 5 年 月 2005 5 ACTA ELECTRONICA SINICA May 2005 VHF-PECVD 制备不同衬底温度微晶硅薄膜结构研究 张晓丹，赵 颖，高艳涛，朱 锋，魏长春，孙 建，耿新华，熊绍珍 （南开大学光电子薄膜器件与技术研究所，天津 300071； 南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室，天津 300071； 南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室，天津 300071） 摘 要： 采用微区拉曼散射、傅立叶变换红外吸收和光热偏转谱对VHF-PECVD 制备的不同衬底温