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雷射原理與發展簡介 雷射原理與發展簡介 一、雷射的基本原理 二、光的吸收比率與相關應用波長 三、雷射源產生與放大機制 五、雷射波形調整 七、雷射光束的景深變化 六、各式雷射頭介紹 四、UV雷射產生方式與波長轉換 八、近年來微孔技術發展與雷射相關應用產品 1 雷射原理與發展簡介 Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation 一種由幅射釋能激發放大的光 (雷射) 具單色特性 (Monochromatic) 同步性 (Coherent) 一致的波形 低散射 (Low divergence) 散射角低 雷射輸出以連續波(Continuous Wave)或脈沖式切換式(Pulsed or Q_switched) 雷射的組成成份(Laser Ingredients) 雷射的介質：固體、液體、氣體均可 雷射激發的方式：光學推進、電極作用 雷射基本原理 2-1 雷射原理與發展簡介 Total Absorption Wavelength (microns) 0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1 1.1 1.2 FR4 Matte Cu Glass 0.355 0.94 光的吸收比率 2-2 雷射原理與發展簡介 100 nm 5th H, 4th H, 3rd H, Ar-Ion 2nd H, Nd:YAG CO2 Nd:YAG Nd:YAG Nd:YAG Nd:YAG Nd:YLF Laser Type Wavelength 212 nm 266 nm 355 nm 488 nm 532 nm 1064 nm VISIBLE INFRARED ULTRAVIOLET 1000 nm 10,000 nm 400 nm 750 nm 1321 nm 雷射加工應用之相關波長 3-1 雷射原理與發展簡介 雷射介質 (Medium) (Laser Resonator) 半反射鏡 (Mirror) Reflecting rate 100% 完全反射鏡 (Mirror) Reflecting rate 100% 啟能裝置 (Energe Generator) 雷射 ( Laser ) Q 雷射源產生機制 3-2 雷射原理與發展簡介 (1) 啟始時各方向光子都會發 生 ，但偏離方向者自動散逸不 參加雷射振盪 (2) 軸向光子來回反射光子如雪 崩般急速增加 (3) 雷射由部份透射鏡射出光束 雷射收集與放大機制 4 雷射原理與發展簡介 S H G H G Diode bar Diode bar YAG Laser Q_Switch T 2nd Crystal 3rd Crystal YAG SHG 1064 nm 532 nm Fourth Harmonic Generation Third Harmonic Generation YAG SHG 1064 nm 532 nm THG 355nm YAG SHG 1064 nm 532 nm FHG 266nm UV雷射產生方式與波長轉換 5 雷射原理與發展簡介 Beam In Roof Prism Beam In Beam Out Beam In Beam Out Flatten Adjust Power Density Homogenize 雷射波形調整 6-1 雷射原理與發展簡介 slab mirror Beam Shaper mirror Laser out put High reliable RF Laser Stable output Continuous short pulse output No non-function pulse create High quality beam shape quality Low Maintenance needed Long shelf life Enclose air chamber Don’t need often change s