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磁控溅射工艺控制模式比较
第 卷 第 期 光 学 仪 器
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年 月
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磁控溅射工艺控制模式比较,
郑舒颖 陈少扬
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中南实业国际 深圳 有限公司 广东 深圳
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摘要 对各种磁控溅射的工艺参数控制技术进行比较 分析各自的特色 并指出光学厚
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度监控对于制备精密光学多层膜的反应溅射工艺的重要性2
关键词 反应磁控溅射 溅射工艺控制 电介质薄膜
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中图分类号! 50565 文献标识码!
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~ 引 言
磁控溅射技术制备金属化合物 尤其是电介质时 常会遇到一些问题 弧光放电 即打火 阴
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极中毒 以及阳极隐没 等 为了改善磁控溅射稳定性和重复性 提高沉积率 近十年
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