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ZnS薄膜沉积过程的基材效应.pdf
真空科学与技术学报 第3l卷第3期
a姐NEsEJOURNALOFVAaII『l垤SCIENCEANDTECHNOLOGY 2011年5、6月
ZnS薄膜沉积过程的基材效应
徐均琪’ 苏俊宏 粱海锋惠迎雪
(西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室西安710032)
ofSubstrateMaterialOilGrowthofZnSFilms
IIlfIuence
Xu
Junqi’，SuJunhong，Liangthifeng，XiYingxue
F／／m
(Shaan矗Prov／n傀Th／n
Techno／ogyand唰TestOpen研
710032，china)
￡曲咖，X／’吼死由毗)g脚Un／vers／ty。X／’an
AbstractTheZnSfilmswere thermal andionbeamassisted substratea
grownby evaporation deposition([BAD)on
of K9 ofthe thesubstrate瑚衄-
silicon，germanium，quartz，andglass，respectively．Theimpactsgrowthconditions，including
the and oftheZnsfilmswere
terials，substrate rate，on
tempemture，anddeposition growth，microstmcturesproperties
results affectthe and ofZnSfilms．
studied．Theshowthatthesubstrateand
speciesterat)eraturestrongly growthproperties
For itcoInesto substrates otherthree substrates．Asthesubstrate
instance，when rates，quartz outperform type
deposition
rise fromroom 2000C，the mtesdifferenceincreasefrom3．3to5．2nm／
temperatureup temperature(RT)todeposition
to ZnSfdms atRTondifferent
reducesthedifference1．86 the substrates，the
min；IBAD nm／min．Among grown
partly
threeare be
ZnSon hasthelowestref
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