《《第2章+薄膜的物理气相沉积I》》.pptVIP

定义：当蒸发源与衬底之间存在某种障碍物的时候，物质的沉积将会产生阴影效应，即蒸发出来的物质将被障碍物阻挡而不能沉积在衬底上。 缺点： 阴影效应可能破坏薄膜沉积的均匀性； 薄膜的沉积将会受到蒸发源方向性的限制，造成有些部位没有物质沉积。 4、阴影效应 优点： 可以在蒸发沉积的时候，有目的地使用一些特定形状的掩膜(Mask)，从而实现薄膜的选择性沉积。 Si表面Al差指电极 ZnO薄膜表面Al差指电极 二、蒸发沉积薄膜的纯度 1、影响薄膜纯度的因素： 1）蒸发源的纯度； （使用高纯物质作为蒸发源） 2）加热装置、坩埚可能造成的污染； （改善实验装置） 3）真空系统中的残留气体。 （改善真空条件 ） 在沉积过程中，残余气体的分子和蒸发物质的原子将分别射向衬底，并同时沉积在衬底上。蒸发物质原子的沉积速率为 （2-15） 其量纲为原子数/cm2·s。其中ρ为沉积物质的密度，s为厚度沉积速度。 可求出气体杂质在沉积物中的浓度为 （2-16） 例：残余气体对蒸发薄膜的污染 其中MA和Mg分别为蒸发物质和残余气体的相对原子质量，p是残余气体的压力。 由杂质浓度 可以看出：沉积 物中杂质的含量与残余气体的压强成正