《纳米薄膜》.ppt

无机纳米薄膜的制备 纳米材料概述 近20年来纳米材料和技术是一门新型学科（纳米学），是富有活力，研究内涵十分丰富的科学分支，已被广泛地应用于微电子、冶金、化工、国防、核技术、航天、医学和生物工程等领域。纳米科学技术的诞生，将对人类社会生产力的发展产生深远影响，并从根本上解决人类面临的许多问题，尤其是人类健康、能源和环境保护等重大问题，科学家们预言纳米技术将在未来发挥巨大作用。 纳米薄膜材料的制备方法 薄膜制备的物理方法 薄膜制备的化学方法 纳米薄膜材料的制备方法 一、薄膜制备的物理方法 物理气相沉积（PVD） 通过高温加热金属或化合物蒸发成气相，或者通过电子、离子、光子等荷能粒子的能量把金属或化合物靶溅射出相应的原子、离子、分子(气态)，在固体表面上沉积成固相膜，其中不涉及到物质的化学反应(分解或化合)。 由于粒子发射可以采用不同的方式，因而物理气相沉积技术呈现出多种不同形式： 1.真空蒸发 在真空蒸发技术中，人们只需要产生一个真空环境，在真空环境下，给待蒸发物提供足够的热量以获得蒸发所必需的蒸汽压。在适当的温度下，蒸发粒子在基片上凝结，这样即可实现真空蒸发薄膜沉积。 注：只要在给定空间内，气体压强低于一个大气压的气体状态，均称之为真空 粗真空：1*105～1*102Pa 低真空：1*102 ～1*10-1Pa 高真空：1*10-1 ～1*10-6Pa 超高真空：＜1*10-6Pa 真空蒸发沉积过程 （1）蒸发源材料由凝聚相转变成气相； （2）在蒸发源与基片之间蒸发粒子的运输； （3）蒸发粒子到达基片后凝结、成核、长大、成膜。 真空蒸发系统 （1）真空室； （2）蒸发源或蒸发加热装置 （3）放置基片及给基片加热 装置 几种重要的蒸发方法 电阻加热蒸发 闪烁蒸发 电子束蒸发 激光蒸发 电弧蒸发 射频加热  溅射的装置 辉光放电直流溅射 三级溅射 射频溅射 磁控溅射 对靶溅射 离子束溅射 交流溅射 反应溅射 3.离子束与离子助 在离子束沉积过程中，所希望得到的膜材料被离化，具有高能量的膜材料离子被引入到高真空区，在到达基片之前被减速以实现低能直接沉积。 离子助过程则是蒸发和溅射的交叉过程。蒸发沉积的速度快，蒸发得到的膜与基片的集合较差，膜孔洞多，厚度均匀性差，而溅射没有这些缺点，但其溅射的沉积速度太慢，离子辅助则吸收了两者的优点并克服了两者的缺点。 离子束与离子助的几种类型 （1）离子镀（三级离子镀、空阴极放电离子镀） （2）阴极电弧等离子体沉积 （3）热空阴极枪蒸发 （4）共离子轰击沉积 （5）非平衡磁控离子助沉积 （6）离子束沉积 4.外延膜沉积技术 外延是指沉积膜与基片之间存在结晶学关系时，在基片上取向或单晶生长同一物质的方法。 包括： （1）分子束外延（MBE） （2）液相外延生长（LPE） （3）热壁外延生长（HWE） 分子束外延 在超高真空条件下，由装有各种所需组分的炉子加热而产生的蒸气，经小孔准直后形成的分子束或原子束，直接喷射到适当温度的单晶基片上，同时控制分子束对衬底扫描，就可使分子或原子按晶体排列一层层地“长”在基片上形成薄膜。 分子束外延的特点 优点： （1）由于系统是超高真空，因此杂质气体（如残余气体）不易进入薄膜，薄膜的纯度高。 （2）外延生长一般可在低温下进行。 （3）可严格控制薄膜成分以及掺杂浓度。 （4）对薄膜进行原位检测分析，从而可以严格控制薄膜的 生长级性质。 缺点： 设备昂贵，维护费用高，生长时间过长，不宜大规模生产 分子束外延装置 二、薄膜制备的化学方法 热生长 化学气相沉积 电镀 化学镀 阳极反应沉积法 LB技术 1、热生长 在充气条件下，大量的氧化物、氮化物和碳化物薄膜可以通过加热基片的方式获得。 举例： 室温下在铝片上形成氧化铝膜，膜的厚度可以通过升高基片温度而得到增加。 2、化学气相沉积（CVD） 在化学气相沉积中，气体与气体在包含基片的真空室中相混合，在适当的温度下，气体发生化学反应将反应物沉积在基片表面最终形成固态膜。 用于制备薄膜的化学气相沉积涉及三个基本过程： （1）反应物的运输过程 （2）化学反应过程 （3） 除去反应副产品过程 化学气相沉积的优点 可以准确地控制薄膜的组分及掺杂水平； 可