直流辉光放电离特性的picmcc模拟.pdfVIP

摘要 摘要 随着微电子工业的发展，辉光放电技术的应用领域越来越广泛。作为产生等 离子体的一种主要的方式，长期以来，国内外学者从多方面对辉光放电进行了研 究，但其中对于辉光放电电离过程的研究较少。了解直流辉光放电的电离过程， 能够更深入的了解辉光放电过程中粒子的输运特性，正确的模拟这一电离过程将 对以后的实际应用起理论指导作用。 本论文围绕直流辉光放电的理论分析与计算机模拟展开研究工作，主要工作 和创新之处在于： (1)对直流辉光放电及等离子体源的理论、计算机模拟方面进行了综述 对直流辉光放电及其生成等离子体的理论、计算机模拟方法进行了综述、总 结与对比，并对今后的研究前景进行了展望。特别指出了模拟直流辉光放电电离 过程的重要意义及PIC／MCC(粒子模拟与蒙特卡罗相结合)方法在模拟直流辉光 放电及其生成等离子体特性研究中的优势。 (2)直流辉光放电电离过程的三维理论分析 以通常的直流辉光放电系统为基础，建立了物理模型，对直流辉光放电进行 了三维的理论分析，其中包括电势的求解、等离子体集体运动、粒子间的碰撞、 带电粒子与边界的相互作用。考虑了电子与中性粒子的弹性、激发、电离碰