磁控溅射法备几种金属、金属氧化物薄膜.pdfVIP

中文摘要 中文摘要 金属与金属氧化物在气敏、光催化与太阳能电池等方面有着极为重要的应用，通过 磁控溅射法制备的金属氧化物薄膜，具有纯度高、致密性好、可控性强、与基底附着性 好等优点，因此磁控溅射技术被广泛应用于工业化生产制备大面积、高质量的薄膜。我 们通过磁控溅射法制备了氧化铜纳米线阵列薄膜，并研究了其气敏性质；除此之外，我 们还通过磁控溅射法制备了 TiO2/WO3 复合薄膜，研究了两者之间的电荷传输性质：基 于磁控溅射法，我们主要开展了以下三个方面的工作： (1)采用磁控溅射法在掺氟二氧化锡导电玻璃（FTO ）衬底上溅射金属铜薄膜，所制 备的Cu 薄膜通过在管式炉中退火氧化生长，可得到CuO 纳米线阵列薄膜。用X 射线衍 射仪（XRD ）、扫描电子显微镜（SEM ）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM ）对其形 貌和结构进行了表征，并研究了这种通过磁控溅射法得到的CuO 纳米线阵列薄膜对CO 和H2S 的气敏性质，研究结果表明：CuO 纳米线阵列薄膜在250 ℃时对CO 气体具有最 强的气敏响应，并且当CO 浓度增大时其气敏响应明显增强；而对于H2S 气体，在常温 下CuO 纳米线阵列薄膜能够对低