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退火处理对LaAl03薄膜结构和发光特性的影响 和(111)的特征峰，表明样品开始由非晶向晶体结构转变。同时，XRD谱中2口衍射角在20％300 范围内出现几个小的衍射峰，分析认为是灿203的特征峰。 ，一’ 穹 8 各 ‘窃 口 卫 与 20／(degree) 图3．6taAl03溥膜经9500C退火处理后的XRD图 火处理样品的XRD谱，各衍射峰的强度明显增大。表明薄膜结晶状况良好，特别是最强峰(111) 在空气中高温退火使得薄膜中砧20，的含量有所增加。 如何得到高质量LaAIO，薄膜一直是研究中的重要课题，通过改进薄膜生长工艺，特别是对 薄膜的后退火处理，可以较大幅度的调整或改善薄膜的性能和结晶状况。为了便于比较退火处 理对样品结构性能的影响，将退火前后薄膜样品的XRD图放在一张图中进行对比，如图3．7所 的晶化，但是薄膜的结构仍然是以非晶态为主，薄膜结晶性较差，只存在少量的微小晶粒。