nicr合薄膜的制备与特性研究.pdfVIP

摘要 本论文主要研究了在压力传感器中有重要应用前景的NiCr合金 薄膜的制备、表征、微观结构和电学特性。包括如下几个方面内容： 首先，回顾了NiCr合金薄膜的发展和有关研究结果。然后采用磁控 和离子束溅射两种方法制备出了NiCr合金薄膜，采用离子束方法制 备了含氮NiCr合金薄膜，对溅射态的薄膜样品进行了热处理。用EDX、 IQ台阶仪、标准四探针法(FPP)等测试分 AFM、XRD、Alpha-step 析手段对薄膜成分、微观结构、厚度、电学特性等进行了研究，同时 采用悬臂法和自行设计的实验装置测量了薄膜的电阻应变系数(GF)、 电阻温度系数(TCR)。通过试验结果分析得到如下主要结论：采用磁 控共溅射方法和离子束溅射方法可有效、准确控制NiCr合金薄膜的 厚度；采用磁控共溅射方法，以调节靶材溅射功率为基础，考虑薄膜 元素的溅射产额可以控制薄膜组分比；不同厚度薄膜样品的AB4和 FPP研究表明薄膜表观颗粒尺寸随厚度有增大趋势，而电阻率随厚度 增大而减小：热处理后的薄膜XRD、TCR、电阻特性表明热处理使薄膜 晶化，薄膜在一个温度周期内电阻迟滞减小，薄膜的电阻性能趋于稳 定。氮气分压增大减小了薄膜的沉积速率，氮气的加入对薄膜表面颗 粒尺寸长大起一定的阻碍作用。热处理后，薄膜表观颗粒尺寸和电阻 迟滞随氮气压的增大而减小。 关键词NiCr合金薄膜，磁控溅射，离子束溅射，结构形貌，电学 特性，热处理 ABSTRACT The and ofNiCr films preparation,characterizationpropertiesalloy materialin arestudiedinthis The as sensor piezoresistivepressure PapeL includethe and paper followingcontents：first,thedevelopmentstudy resultsofNiCr filmisreviewed the method alloy simply；thenpreparing of filmisintroduced．PureNiCr filmswere both by alloy alloy prepared andionbeam magnetronCO-sputtering spuRering filmswith were ionbeam methodin alloy by sputtering nitrogenprepared amixtureof and films nitrogenargon．Afterpreparation,theas—deposited wereheat-treatedto mierostructureandelectrical stabilize properties． filmswerecharacterized Finally,the