光频电磁波薄膜结构中传播的空间干涉现象研究及应用.pdfVIP

光频电磁波在薄膜结构中传播的空间干涉现象 研究及应用 造型堂皇王程系迷堂专业 学生姓名壁塑益…导师姓名蓬．量蕴’‘导师职称’墅拯 摘要 信息技术J下在经历从电子学、光电子学到光子学的发展。随着社会文明的发 展，人们对信息量的需求呈现爆炸性增长的趋势，迫切需要提高荷载信息的容量 和加快处理信息的速度。以光子或光波代替电子或电磁波作为信息的载体是高速 率和大容量现代信息技术发展的重要特点之一。二十一世纪将出现光子信息时 代。光子学是一门具有极强应用背景的学科，已产生了一系列新颖光子技术，诸 如光子的发生(激光技术)、光传输、光调制和开关、光存储、光探测、光显示技 术等等。作为技术的基础和先导，通过先进光子材料和器件的研制，能够促使各 种光子技术获得实际应用，．这要求新型光子材料和器件具有较短的响应时间、低 维(如薄膜结构)和易于集成的特点。在本论文中，围绕光子薄膜的重要应用需 求，首次较系统地研究了光频电磁波在薄膜中传输时发生的光子空间干涉的现象 利原理，所获得结果将有助于提高光子薄膜材料和器件的性能，促进光子技术的 ’ 发展。 ’ 论文的内容主要包括了以下几方面： 第一章首先简述了光子学和光子技术的应用背景，光子薄膜结构是众多光子 技术应用的基础和先导，叙述了薄膜光学的重要基础一光子干涉的现象和原理， 进而说明了本论文研究的目的和意义。 第二章详细论述了研究中所采用的实验系统与方法，包括等离子体辅助电子 束蒸发镀膜系统的原理、结构和操作方法；薄膜参数的两种重要表征方法：扫描 电子显微镜(SEM)和X射线光电子能谱(XPS)：介绍了用于测量薄膜干涉的椭圆偏 抓测量术；最后描述了制备Si02簿膜的最佳_【艺条件。介j研究中，采刖扫描电 ，丫显微镜(SEM)测量样品的表面形貌；采用X射线光电：『．能h。．‘f(XPS)测．鞋了薄膜元 券的化学念和化学配比：采用邦f|圆艄振光潜方法测量了Si02薄膜的光学性质， ㈠lDil l Ill ll1]ll l JII IllI j 1 965515o Y1 研究和分析了各种工艺条件(射频等离子辅助功率、生长速率和衬底温度等)对 薄膜物理性质和光学性质的影响，获得了最佳的薄膜生长工艺条件和规律。 。第三章从麦克斯韦方程组出发，详细阐述了光波在单层和多层薄膜材料中传 一 播的干涉规律的经典理论。 第四章详细讨论了光子在薄膜材料中传播的空间干涉规律，。首先在椭偏实验 测量中观察到一种非正常现象——当光程差d=p，2p左右时，利用光波在薄膜 材料中传播的经典干涉规律和经典椭偏学测量模型拟合计算出的椭偏参数值严 重偏离实验测量值。本文对这种现象产生的原因进行了深入分析，首次提出了光 频电磁波在薄膜结构中传播时的空间干涉模型，对经典椭偏学测量模型进行了修 正，并用于实验结果的分析，获得了新模型与实验数据很好吻合的结果。所给出 的考虑空间干涉效应的光学薄膜公式将可用于光子薄膜材料和器件设计、分析和 性能测试，有助于提高器件性能，促进光电子信息技术的发展。 最后对本论文的工作进行了总结，并对今后的工作提出了展望。 关键词：干涉，光子薄膜，椭圆偏振光谱仪，等离子体辅助电子束蒸发 Abstract informationis from to The developed technology