金刚石缺陷面吸附和类金刚石离子束辅助沉积的计算机模拟.pdfVIP

摘 要 carbon，DLC)薄膜具有硬度高，耐磨，高光学透过 类金刚石(diamond-like 率等特性，在机械工具、光学镀膜和高温电子器件方面有着良好应用前景，所以对 其生长机制和合成方法的研究一直是物理学及材料科学研究领域的重要内容。在一 定的实验条件下，离子束辅助沉积(ion-beam-assisted 高合成薄膜的密度、硬度及增强薄膜与表面的结合。对于IBAD还涉及离子注入等 动力学过程，实验上很难对轰击粒子、沉积分子与表面相互作用的动力学过程进行 跟踪观察，许多与原子有关的细节无法获得。因此，在原子水平上研究团簇与表面 的相互作用，了解DLC薄膜生长的微观机制；探索实验条件对合成DLC薄膜结构的 影响，以及改进制备技术和提高薄膜质量有着重要意义。 本文采用分子动力学(Molecular 以模拟荷能碳团簇在金刚石表面的化学吸附过程，以及模拟在Si衬底含氢DLC薄 膜的合成过程。本文的主要研究工作如下： (1)本文用胁方法在原子层次模拟研究了(不同入射能量的)C：分子在金刚石 (001)一(2×1)表面的吸附过程，重点讨论了无缺陷衬底和缺陷衬底上多个对应位置 对C：分子的吸附过程，并作