半导体工艺基础(清洗).ppt

本文观看结束！！！ 祝各位身体健康！万事如意！！ * 　　集成电路及微机械加工技术 * 重庆大学光电工程学院 集成电路及微机械加工技术 -----半导体集成电路工艺基础?（清洗） 张正元 提纲 一、 沾污类型 二、 解决方法 三、 清洗设备 沾污类型 沾污经常会造成电路失效，沾污类型主要包括如下： 颗粒 金属 有机物 自然氧化层 静电释放（ESD） 颗粒 沾污 颗粒 沾污 颗粒 沾污 最小颗粒0.1微米 金属沾污 来源：离子注入、各种器皿、管道、化学试剂 金属沾污 途径： 通过金属离子与硅片表面的氢离子交换而被束缚在硅片表面； 被淀积到硅片表面。 一粒食盐----足以在5000片硅片上淀积每平方厘米1012个钠离子。 金属沾污 有机沾污 自然氧化层沾污 ESD沾污 解决方法 解决方法 厂房： 净化间布局 气流原理 空气过滤 温度和湿度 静电释放 *从未受颗粒沾污的净化间着手开始建；尽可能减少通过设备、器具、人员和净化间供给引入的颗粒；持续监控净化间的颗粒，定期反馈信息和维护清洁 解决方法 解决方法 解决方法 解决方法 *大于16M?.cm 解决方法 解决方法 解决方法 解决方法 解决方法 解决方法 清洗设备 清洗设备 清洗设备 清洗设备 作业 1、什么是半导体集成电路的沾污？有那几类？ 2、什么是SC-1、SC-2？ 3、SC-1清洗的机理是什么？ 4、净化间净化等级是按级别来分的，100级净化是只什么？ 5、?某一NPN晶体管的发射极电流为8.6mA。如果0.9%的少量电子进入基区与空穴复合，泄漏电流为0.1μA，计算（1）基极电流；（2）集电极电流；（3）α的精确值；（4）忽略ICBO， α 的大约值。 作业 6、试在特性曲线上指出三极管的三个工作区：放大区、截止区、饱和区。 7、为什么说三极管放大作用的本质是电流控制作用？如何用三极管的电流分配关系来说明它的控制作用？ 8、三极管发射极与集电极对调使用时，放大作用将如何？ 9、晶体管在ICBO=48nA 和α=0.992时，（1）计算β和ICEO。 （2）当IB=30μA 时，精确计算的集电极电流IC。（3）计算集电极电流IC 的近似值。 作业 10、一个共发射极偏置电路，其结构如左图所示，晶体管的输出特性曲线如右图所示。（1）求出偏置点；（2）最大输出幅度是多少？（3）如果电阻采用方块电阻为500Ω/?，RB和RC在设计上最小宽度分别是多少？（4）晶体管在设计中要考虑那些效应？（5）晶体管结构采用那些结构？（6）如果采用梳状结构，晶体管的发射区最小宽度是多少？发射区周长是多少？ * 　　集成电路及微机械加工技术 * 重庆大学光电工程学院