生产型MOCVD电气控制系统的研发.pdfVIP

摘要 lIIII I I IIMIllIll IIUI Y2403267 摘要 Chemical 金属有机物化学气相沉淀技术(MetalOrganic VaporDeposition，简 称MOCVD)，是一项制备化合物半导体单晶薄膜的技术，主要用于发光二极管 的制造。MOCVD设备是光电子行业关键设备。南昌大学国家硅基LEDI程技术 研究中心，研发人员历经一年多来的的努力，成功研发出了37x2”GaN基MOCVD 设备并投入运行。根据市场变化情况和外延工艺对设备的更高要求，需要在设 备的电气控制、反应腔体容量等方面进行优化设计和功能提升。 论文的主要任务是研制新机型——61x2”GaN基MOCVD设备完整的电气控 制系统。主要完成了基于工业以太网和现场总线网络的MOCVD控制系统的电气 总体方案设计；电气及其控制系统的硬件线路设计，主要包括加热电源的主回 路和控制回路设计，控制系统主回路和控制回路设计、安全互锁回路的设计； 现场总线DeviceNe网络线路设计及软件组态、编程，线路设计主要包括网络的 介质选择、网络结构组成、电源选择及在网络上的分配：反应室机械手操作和 自动喷头刷的PLC程序设计。 自主研制的MOCVD装备控制系统新机型经过了部件单元调试和联合调试， 装备运行情况良好，完全能满足外延工艺生产的要求。61片机MOCVD装备的控 制系统与37片机相比，其控制系统性能更加稳定，控制更加安全可靠，自动化 操作程度更高，制作成本更低。新机型装备的研制为进一步实现国产MOCVD装 备的产业化打下了坚实基础。 关键词： MOCVD；电气线路；DeviceNet；PLC编程 Abstract Abstract Metal Chemical isa of Organic VaporDepositiontechnologyproducing semiconductorthin of overthesurfaceofthe compound bydepositinglayerscrystal usedtomanufacture diodes．The substrate，mainly light-emittingMOCVDdeviceis the for research keyequipmentphotonicsindustry．National engineeringtechnology centerforledonSi-Substerate RD morethana Nanchang Universitystaff,after ofhard succeededinthe and into of year work，finally developmentput operation 37x2”GaNbasedMOCVD devices．Atthe meetthe of meantime，to requirement m