光-声、光-应力波及其热传导的若干理论与应用的分析.pdf

————_———w-_—————Ⅲ—————_———w-●_ⅧⅢ——__*———w*——_mh——_——一一一一。 一 光一声、光一应力波及热传导的若千理论和应用研究 摘要 本论文分为三个部分。 第一部分讨论光声效应的一般理论及其应用。 袭这一部分里，分绍了作者在光声效应的枧理、多最复合介质光 声效波豹计算穰以薄膜导热系数测定力主的光声技术的应耀这几方 露所进行的研究工作， 关于光声效应产生的橇制及其定量表述，虽然裔1976年 and Gersho提戳著名的热活塞模翟并首次给出计算表达式， Rosencwaig and 1978年McDonaldWetsel提出包括机械活塞在肉的复合活塞模鹜 将其推广以来，人们就已有了一个较好的定性解释和定量计算工其。 事实上，活塞模型直到现在都在被广泛地采纳和使厢。但由于是从“活 塞”这一图象出发，他们的推导和计算过程含有了～些人为假定的因 素和混乱、矛盾的地方，其严格性值得探究。作者用热力学的观点对 光声现象产生的机理进行了系统研究，没有采用任何活塞概念，只纯 粹从热力学的原理如发即自然地导得了与复合活塞模型相类似的光 声效应计算表达式，从薅发现翻纠正了存在予翦人热嚣塞模型和复合 活塞摸型中的错误，给了光声效应一个清晰、严格的鳃释和计算手 段。鸯关实验可作必其泛确性的佐证。我们的研究结果表瞬：光声效 应只来鸯予两部分因素的烫献。一即是被称为“热活塞”的与材料受 热表掰褶邻的透界层气体溺期性热膨胀产生豹惩缩，其悬定容过程； 另一是被称为“梳械活塞”的材料本身热祷胀产生的嚣缩，其是多交 过程，多变指数为2-，y为绝热压缩因子。而不似R-G热活塞模 y 型褪M-W复合活塞模型所假定的蒡器样一均隽绝热避程。 尧声效应的研究在R-G模型提出屠的茄一个重要发展方淘帮是 and Gersho的单爱模型商多屠应糟推广。因为多层材料 将Rosencwaig 的研究显得越来越羹要，尤其是在微电子工监．由于计算的复杂，绝 大多数这些研究仅限于二或三层样品。个别多层系统的光声解或者只 叶哐j科学技术大学博士论文 适用于非常极端的情况，或者假定入射光全部被样品的表面或表层吸 收，而不顾入射光有可能穿透至里层甚至基底这一事实。不仅如此， 几乎所有的这些工作不考虑层与层之间的接触热阻。我们给出了一个 通用的光声效应多层模型并推得了可适用于任意多层的以矩阵形式 表达的光声效应解。它考虑了各层的几何性质，热、光传输以及层间 的接触热阻。入射光在多层结构(包括基底在内)的任一层或几层被吸 收的情况均可计算。 光声效应可用于进行很多方面的研究，既可以是基础性的，又可 以是应用性的。我们利用所建立的光声效应一般理论进行了以薄膜导 热系数测定为主的应用研究，并在测量层间接触热阻、层的厚度、表 面反射率以及研究薄膜厚度对导热系数的影响等方面做了一些初步 的尝试。被测样品主要有：硅晶片J：热生长的厚度从50纳米至500 纳米不等的二氧化硅薄膜、硅晶片和玻璃上用电子蒸发溅射或电镀生 成的镍膜、合金上的热障材料和硅晶片上的功能梯度材料等。因热厚 材料的相位差均为．90。，不能提供任何有关材料性质的信息，光声测 量中常用的相位差拟合法仅适用于非热厚材料。有鉴于此，我们又同 时发展了一种振幅拟合法。这样不论是薄膜还是厚材料均可测量。我 们的测量频率高达20kHz，较通常光声法所采用螅最高测量频率2kHz 要高一个量级，因而所能测量的材料厚度也更薄。／ 第二部分研究材料中由激光脉冲作用所导致的热弹性应力波的 特征及其产生和运动规律。 f7在激光脉冲的瞬时加热冲击下，因表层温度迅速升高而热膨胀所 产生的挤压作用，材料内部将会有～个应力波生成和发展。对这一现 象的研究可追溯至本世纪六十年代，但对这一问题的处理，由于其运 动方程的求解涉及到代入实际温度分布后产生的相当复杂的积分运 算，因而，人们或者做极端简化不考虑热扩散，或取近似的温度分布， 或只考虑简谐变化的激光加热强度，较常见的是采用数值积分反变换 的方法，并且所有这些处理假定激光加热能量仅在材料表面吸收。