以六羰基铬为前体的激光化学气相沉积薄膜的结构表征及形成机理.pdfVIP

摘要 摘要 以大规模集成电路光掩膜版透明缺陷维修为应用背景，以六羰基铬金属羰基 配合物为前驱体，采用激光化学气相沉积方法(LCVD)制备了薄膜，采用扫描电 镜、原子力显微镜、X射线光电子能谱方法对LCVD薄膜的表面形貌、化学成分、 物相组成进行了表征，对薄膜生长机理和物相形成机理进行了分析。 结果表明，在适当的激光功率和作用时间下，可以获得连续、均匀、致密的 通过反应、吸附、凝聚、成核、扩散、合并长大形成，由lO微米以下的不规则团 簇状颗粒组成，颗粒内部存在100纳米左右的多边形精细结构。通过六羰基铬的 组成。随着LCVD时间延长和薄膜厚度增加，激光透光率降低，基体温度升高， 六羰基铬的分解由光解为主逐渐转变为热解为主。 关键词：激光化学气相沉积；六羰基铬：薄膜；结构表征；形成机理 ABSTRA(T 一一————-———————————————————————————-——————__—-———一 ABSTRACT