多层介质膜光栅模槽形的控制与检测.pdf

多崖介质膜光栅掩模槽形的控制与检测 文摘要 多层介质膜光栅掩模槽形的控制与检测 中文提要 本文围绕多层介质膜光栅掩模的制作展开理论和实验研究，主要内容包括以 下几个方面： 首先介绍了研究惯性约束核聚变(ICF)的意义和国际上脉冲压缩光栅(PCG) 的研究进展。对光栅电磁场的严格矢量理论作了～定的介绍，选择严格耦合波 (rigorouscoupled—wave，i．e．RCW)理论作为本课题有关光栅衍射效率数值计算 的理论基础。 全息干涉是目前制作脉冲压缩光栅(PCG)的唯一有效方法。全息记录材料 也就是掩模的材料是光刻胶，因此本文对光刻胶的特性进行了比较深入地研究， 重点分析了显影液温度和显影时间这两个因素对它的影响。并以此为依据，采用 数据拟合及实验摸索的方法，得到了控制光栅掩模槽形比较有效的方法。 由于显影是掩模制作的最后一道工序，而且它能对曝光起到一定的补偿作用， 对最后的槽形有重要影响，因此在本课题中采用了显影实时监测的办法，采用测 量监测光(监测光不能使得光刻胶感光)菜级衍射效率的办法来判断显影过程中 槽形的变化情况。 最后论文提出