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- 2015-12-19 发布于浙江
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刻蚀术语
Sheet3
术语
单词
ETCH
E/R
Selectivity
Uniformity
Profile
Stopping layer
Etch bias
Over etch
Residues
Micro-masking
Resist reticulation
Aspect ratio
Aspect Ratio Dependent Etching/ARDE
Resolution
Depth of focus
Critical dimensions-CD
Chemical etching
RIE
Anisotropic etch
Arcing
Micro Loading
ICP
开碗口
F基
Cl基
RCA
BOE
Undercutte
etch foot
Notche
etch back
SOFT ETCH
DRY ETCH
WET ETCH
DESCOM
Physical etching
Spacer etch
F/C比
Preetch Resist Profile
polymer
衬底损伤
刻蚀速率
选择比
均匀性
侧壁形貌
停止层
条宽损失
过刻
残留物
微掩膜
胡胶
纵横比
纵横比决定刻蚀
终点
光刻胶
分辨率
焦深
关键尺寸
化学刻蚀
物理刻蚀
反应离子刻蚀
各向同性刻蚀
各向异性刻蚀
后刻蚀
刻蚀不足
干法去胶
刻蚀后镜检
接触口刻蚀
通孔刻蚀
电感耦合等离子
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