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- 约 21页
- 2015-12-28 发布于安徽
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目 录
1.引言 1
1.1中孔材料的分类及生成机理[2-5] 1
1.2中孔氧化硅 1
1.2.1:液晶模板机理 2
1.2.2:棒状自组装模型[7] 2
1.2.3:电荷匹配机理[8] 2
1.2.4:层状折皱模型[9] 3
1.3金属离子改性以及在催化与吸附方面的研究[10] 3
2 试验部分 4
2.1中孔材料的合成 4
2.2 XRD物相分析 4
2.3 BET吸附实验 4
2.4 TPR实验 5
3 结果与讨论 5
3.1纯氧化铝中孔材料(MA)XRD物相分析 5
3.1.1合成pH值对纯氧化铝中孔材料(MA)物相的影响 6
3.1.2老化时间对纯氧化铝中孔材料(MA)物相的影响 7
3.1.3纯氧化铝中孔材料(MA)BET吸附实验 8
3.2 掺杂Cu,Zn 中孔材料MCZA的合成与表征 11
3.2.1掺杂Cu,Zn 中孔材料MCZA物相分析 11
3.2.2 MCZA系列中孔材料N2吸附实验 12
3.3 掺杂Cu,Mn 中孔材料MCMA的合成与表征 14
3.3.1常温下合成的中孔材料MCMA物相分析 14
3.3.2中温下合成的中孔材料MCMA物相分析 15
3.3.3氨络合法合成中孔材料MCMA物相分析 16
3.3.4氨络合法制备的MCMA系列中孔材料TPR实验 18
4. 结论 18
参考文献 19
致 谢 20
1.引
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