图案化氧化锌微纳结构的制备和表征.pdfVIP

摘要 摘 要 图案化有序纳米结构的制备主要涉及到自下而上的化学组装和自上而下的微纳加 工技术，即在限定的基底上用纳米单位组装得到有序纳米结构材料，或者直接在基底上 构筑具有独特结构的纳米材料。目前无论是传统光刻、电子束刻蚀(EBL)、离子束刻蚀 (IBL)、纳米压印(NIL)、极紫外刻蚀(EUV)等自上而下式构筑纳米图案化结构的传统刻 蚀技术，还是探针直写技术(SPM)、蘸笔印刷(DPN)、自组装等自下而上的新兴图案化 技术，都由于自身技术特点的缺陷限制了它们的大规模工业化应用，而且有些技术尚处 于研究开发阶段，制约着它们在纳米器件领域的大规模应用，因此积极改进和完善现有 各种技术，探索基于现有技术和其他技术的结合，进行最优化配置探索开发出新颖的高 效、低耗、高质量的纳米图案化制备方案成为纳米图案化研究的重点。本文主要从以下 几个方面进行研究： 一、结合纳米压印和溶胶凝胶技术构筑图案化ZnO 薄膜。首先将聚二甲基硅氧烷 (PDMS)浇铸到母板上，复制出所需的高质量纳米压印软模板，并确定制备模板工艺的 最佳参数。接着以PDMS 模板作为微反应容器，以混合聚丙烯酸(PAA)的ZnO 溶胶代替 传统热压印中高分子热压胶作为阻挡层，结合溶胶凝胶技术，在热压印过程中将溶胶转