约束刻蚀剂层技术（CELT）用于金属材料表面复杂三维微结构加工地研究.pdf

约束刻蚀剂层技术(CELT)用于金属材料表面复杂三维微结构的加T研究 摘 要 究领域之一。微机电系统，泛指体积微小、集微型机械、微型传感器、微型信号处 理器、微型执行器、直至接口、通讯和电源等于一体，具有多种功能的系统。微机 电系统不但通过微型化和集成化达到节省空间、时间、材料和能源的目的，并且具 有小惯性、易控制、高速度、高功能密度、高信息密度、高互联密度等特点，更重 要的还在于它可以完成大尺寸系统所不能完成的任务，延拓人们认识自然的视野， 开辟新的技术领域和产业。 微纳米尺度的微结构加工技术是今日微机电系统和微光机电系统技术的关键 部分。微机电系统和微光机电系统的制造需要高深宽比的复杂三维微结构，当今的 主导微加工技术，即以光刻工艺为基础的IC工艺和LIGA技术，虽然可以达到较 高深宽比，但它们都难于完成复杂三维微结构的加工。许多新研究的方法在这方面 也存在困难。鉴于现有的微加工技术在加工复杂三维微结构方面存在许多局限性， 尤其在加工金属材料方面，存在更多不足，1992年，田昭武院士等提出了约束刻 Etchant 蚀剂层技术(Co蚯ned Layer 于三维超微图形复制加工的新型技术，原则上它能同时满足