《一种采用Li3N掺杂电子注入层的底发射倒置结构OLED的制备》.pdfVIP

《一种采用Li3N掺杂电子注入层的底发射倒置结构OLED的制备》.pdf

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《一种采用Li3N掺杂电子注入层的底发射倒置结构OLED的制备》.pdf

第 4O卷第 2期 光 子 学 报 Vo1.40No.2 2011年 2月 ACTA PH0T0NICA SIN ICA February2011 文章编号 :1004—4213(2011)02—0199—5 一 种采用 Li3N掺杂电子注入层 的底发射 倒置结构 OLED的制备 · 张睿 ,李传南,李涛,崔 国宇,侯 晶莹,赵毅,刘式墉 (吉林大学 电子科学与工程学 院 集成光 电子学 国家重点联合实验室 ,长春 130012) 摘 要 :采用 Li。N掺杂 电子注入层 Alq3:Li3N,制作 了一种结构为 ITO/Alq。Alq。:Li3N/Alq3/ NPB/MoO。/Al的倒置底发射有机发光 器件.其 中 ITo玻璃作为透 明阴极 ,金 属 Al作为顶部 阳 极 ,在 ITo 阴极与 电子传输层之 间加入 I Nn型掺杂层 ,改善 了该器件 的电子注入和传输能力 ; 在 Al阳极与空穴传输层之 间加入 MoO3缓 冲层 ,降低 了Al阳极与 NPB之 间较大 的空穴注入势 垒,改善 了空穴注入能力.实验表 明:此结构的倒置底发射有机发光器件性能可达到传统结构的常 用有机发光器件如 ITO/NPB/Alq。/iiF/Al的性能,完全可 以满足非晶硅薄膜 晶体管有 源有机发 光器件 中驱动 电路 的匹配及性能要求. 关键词:有机发光器件 ;倒置底发射结构;Li。N;n型掺杂;势垒 中图分类号 :TN873.3 文献标识码 :A doi:10.3788/gzx0199 0 引言 置结构 ,上电极是公共 阳极 ,这与传统 的 oIED结 构不同.解决方案之一是使用顶发射 OLED,即底电 有 机 发 光 器 件 (Organic Light—Emitting 极采用金属阴极 ,顶 电极采用透 明阳极 ,如 ITo_1]. Devices,OLED)作为新一代显示 器件,具有主动发 另一种方法是采用 ITO作为透 明阴极,上 电极采用 光、亮度高、省 电、重量轻 、以及可制备在柔性衬底上 金属 阳极 ,即底 发射倒 置 OIED(InvertedBottom 等优点 ,它在手机 、车载显示、电视 、照明以及军事领 OLED,IBOIED).这样 ,在 a—SiTFT制成之后可直 域都有十分广阔的应用前景.OLED按其驱动方式 接溅射 ITo 电极层,从而避免了在有机层之上制备 可分 为 无 源 驱动 OLED(PassiveMatrixOLED, ITO顶 电极 时对有机材料 的损伤[3].但 是一般 PM OLED)和 有 源 驱 动 OLED (ActiveMatrix IB0LED器件 中金属 阳极 /有机材料层界面处存在 OLED,AM—OLED)两种.PM一0LED的结构简单 、 较高的空穴注入势垒,并且在 ITO阴极 /有机材料 成本低 ,但不适用于高信息含量显示屏 ;AM—OLED 层界面处存在较高的电子注入势垒 ,因此导致器件 不仅具有更快的响应速度 、更高的对 比度 ,而且工作 的性能特别差.因而如何改善 IB0LED 中载流子 的 时不需要瞬态高亮度,有利于实现高信息含量显示 注入,尤其是 电子从 ITO 阴极到电子传输层的注入 屏.因此 ,AM OLED 已成为 OLED显示技术 的主

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