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2016-01-20 发布于贵州
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a-C：F薄膜稳定性及Namp;lt;,2amp;gt;热处理对其结构和性质的影响.pdf

d．C：F蒲膜热稳定性世N!热处理计其结构和性质的影晌摘要 f以cF。和csH6混合气体作为源气体，在微波电子回旋共振化学气相＼、作了退火处理以考察其热稳定性。使用台阶仪测量了退火前后薄膜的厚度；用紫外可见分光光度计(UV．V1S)测量了薄膜的透光谱，进而计算了光学分析了薄膜的化学键和结合态；使用低频阻抗测试仪测量了薄膜的电容和损耗角正切值，考察了薄膜的介电性质；使用x射线衍射仪(XRD)获得了薄膜相的信息。本文重点研究了微波功率对薄膜热稳定性影响并考察了在 N2气氛下热处理后a．C：F薄膜的结构和性质的随退火温度的变化。厂结果表明，高微波功率下制备的a-C：F膜具有较好的热稳定性；室温＼下沉积的薄膜主要由CF，和CF键和C=C键构成，当退火温度较低时，C 与F成分主要以CFx的形式从膜中逸出，当退火温度继续升高后，部分SP3C 仍为非品结构；薄膜C=C键含量与光学带隙之问存在密切的关联，低的光学带隙对应较好的热稳定性；退火中氟的逸}}；导致了介电常数增大，薄膜＼取向极化的增加使得介电损耗增大A 关键词：ECR．cVD；氟化非晶碳膜，微波功率；退火温度，热稳定性 Ⅵ a．C：F薄噤热轻定性厦N2热处理对其蛄构和性质的影响英文摘要 Abstract filmswere Microwave Fluorinated carbon amorphous depositedusing electron resonancechemical cyclotron vapor in with and assourceandwereannealedin ambience CF4 C6H6 gas nitrogen Was fills orderto theirthermal thicknessofa-C：F investigate stability．The measureda andafter andthe annealing by profilometer(ET300，Japan)before Wasobtaineda transmission optical spectrum by was 7，PklinEller)andopticalbandgap spectrophotomeler0M filmswere aNicolet550 ofa-C：F bondingconfigurations