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2016-01-20 发布于贵州
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ITO靶材热等压致密化工艺与理论.pdf

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ITO靶材热等压致密化工艺与理论.pdf

摘要 Tin oxjde)靶材对充制备商密度：高纯度、高均匀性和犬尺寸ITO(Indium 分弱焉我溪铟资源侥势，滚交镏产燕缮掏矮有重娶慧义。本文研究了像学菸滚淀一““～—一’一，…一——～法制备ITO靶材热等静滕致密化工艺。选用热等静压致密化工艺的依据怒用这 _一 “—一_—一 1 一_。^ ～释方法容器获褥羧密落。、 r 、7用化学共沉淀法制取的ITO复合粉末经10000c以上高温处理后，平均粒、裁i3。如擞，粒度分枣为潦正态分布，援缀戏秀鼙一立方秘。该释粉裹瀵蘧蒸等静压致密化工艺繇求。蔫嚣获释靛蹇橡狡佟龟套，嚣襄纯液作传袋分凌，凌2．0T／cm2篷力-V对 ITO粉米进行冷等静成型。成型后坯体相对密度为60％旋右。过大的压力会引邃坯律静开袈。 ’ 000。C的濑度下在空气中进行脱氧顶处理有利于对1TO复合粉末在离于1 ITO靶榜热等静藤致密像：有弱予降蘸HIP强震(可海低10§一i8锻：)；露裁予觞可麓瞧。本研究中采用Ar作为热等静压传艨介质；选用碳钢作为热包套；比较研究 Pt、Nb、Ni、Cu秘不锈镄之君，挽先霞震Cu作为疆瑟稽精。磺突了各工艺参数对ITO靶材密度的形响，发现最后温度魁最重要的工艺参数。优化的HIP工艺条俘是、：蔽塞温赛i000。C左右，簸高压力130MPa左右，绦溢辩鬻2一强。用上述优化工艺参数进行热等静压致密化，获得了相对密度为99．6％o，成谂分布麓匀豹ITO靶静。该靶耱懿工戴往镀簇蜜验表稍，镀貘瑗萤符合工翌要求。还将该靶材性能与美国、德圈商用靶材作了对比分析。借臻分褥冀健离瓷榜料静热簿静嚣致密纯邀程静方法，本文将1TO这种氧化物陶瓷靶材的致密化工艺过獠分为连续的三个阶段，用相关理论对每一阶段俸了绉述，并疆戴解释了ITO靶橱熬等静匿致密亿部分特征太u、 Abstract Tin with ofITO(Indium co”precipitation黼 Synthesis Oxide)powders were in ceramics ofITO wellasCIP andHIPdensification investigated process thisthcsis． and tom“‘ TheITO obtained followinghigh using powders co—precipitation tohavethe weredemonstratedaverageparticle perature(10000C)treatment and