明胶蒙脱土纳米合材料的制备、性能及机理研究.pdfVIP

摘 要 水文n勺…。门和1i利用插层复合技术，实现蒙脱一L层状硅酸赫斤层在明胶螭 体中的纳米分敞，制备l刿胶／蒙脱土竺鲞丝|佥土纠盐从而丌衅叫胶类火然蛋白质 高性能化的新途径。借助XRD、TEM等手段对复合材料的微观结构进行表征， 并俐_究了蒙脱f．n0介入刈基体性能(如／J学、热。≯、溶胀等)的如湫。迎过¨1 NMR等．r段刈复合物ilI丛|圳川组作川n《J农抓，钏砂探 一IR、j?T--Raman、1c 讨了离子99捅层复合反应的机理；跟踪检测了反应过程中各参量的变化，摊：测 c¨门 山复合反应的J力氍；进行反应热力学的可行性分析。分析了插层反应过乖ij 影响因素，』i：确定优化的反麻条件。 ／1 J实验纡i果表11J_】，复合材料中明胶大分J，LZ插入蒙脱土层问，形成了捅J，÷徙 ／一飞 ／ l^挺l矧9J胶|，f勺 至}弛’剥f≈f门结』=f{J。蒙脱L的介入刈咧胶性能具何F列影响：|!J_J 力学性能和湿态力学强度；有效地抑制了明胶体系的溶胀，但不影响明胶的溶 胀动力学；删化了叫胶对外界环境变化的敏感响应，抑制体积坍塌，但不改变 明胶的体积棚转变点；延缓了明胶的降懈速度；提高了明胶的热稳定性·。明胶 分子可以借助Jr--NH／或一COO一与蒙脱二I：层问离子的结合而得以俩层；小分 J．该 子模拟分析进一步表明了一COO一与蒙脱i)丢-I、HJ离予问存在较强的作用，jf，1 作用强于一NI-{，“j蒙脱土层间离子的作用。明胶分子的插层还受反应位点数H 的制约，体现了离予型插层复合反应的特点。明胶的插层反应过程以最火絮凝 点为界分为心个阶段，即絮凝阶段和插层阶段。其插层过程为焓变控制，捅层 的驱动力来自j：l刿胶人分子与蒙脱土片层问较强的相互作用。不同pl-I值的19j胶 均可插层，似碱一…则胶插层效果更好。浓度低f10％的明胶可直接与蒙脱{：复 合，商1一lO％则llJ+通过两步法制得插层，“物。超声分散的蒙脱j：更利]j捅J。；反 应的进行。蒙脱L层M离子环境不是插层反应的决定因素，但影响扪层复合的 效果，按插层效果排列，钏I土钠土原二f：峻h改变制备方式，将影响到插层 反应的结果，I}：滴方式得到插层效果好的j“物。适宜的反应温度、搅拌速度以 及反应物f内眦比刈反应的进行有利，延K反应时问对最终产物的影响小火 ， 关键词：l则交，蒙脱土，插层机理，影 性能黟柳 Abstract intercalated to achievethe on technology 311is lbcusodusing colnpound paper and‘o Jon inthe matrix， ofmontmorJl gelatin ofsilicate Jte(MMT) nano．dispersion layers new for pro