微细加工9非光学光刻技术.pdfVIP

第9 章 非光学光刻技术 第9 章 非光学光刻技术 通过使用大数值孔径的扫描步进光刻机和深紫外光源，再 结合相移掩模、光学邻近效应修正和双层胶等技术，光学光刻 的分辨率已进入亚波长，获得了0.1 m 的分辨率。若能开发出 适合 157nm 光源的光学材料，甚至可扩展到 0.07 m 。 但是这些技术的成本越来越昂贵，而且光学光刻的分辨率 极限迟早会到来。已开发出许多新的光刻技术，如将 X 射线、 X 射线 电子束和离子束作为能量束用于曝光。这些技术统称为非光学 电子束 离子束 非光学 光刻技术，或下一代光刻技术 。它们的共同特点是使用更短波 光刻技术 下一代光刻技术 长的曝光能源。 接近式X 射线 X 射线 投影式X 射线（极紫外光） 直写曝光（无