光学薄膜性能监测技术..pptVIP

不同氧分压下SiO2薄膜中残余应力的变化曲线 不同氧分压对SiO2薄膜残余应力的影响 不同温度下沉积的SiO2薄膜中的残余应力与时效的关系曲线 时效对SiO2薄膜残余应力的影响 7.6.2 薄膜应力检测技术1－悬壁法 7.6.2 薄膜应力检测技术2－X射线衍射法 X射线衍射法 当晶体没有发生畸变时，晶面之间的面间距为d0，由于沿晶面方向的内应力σ引起晶面间距d0变为d 时，σ可由下式表示 式中，E，ν分别是薄膜的杨氏模量和泊松比，式中的d是用X射线的位置决定的 7.6.2 薄膜应力检测技术2－X射线衍射法 7.6.2 薄膜应力检测技术3－干涉法 7.6.3 薄膜化学成份测试 损伤测试的重要概念 靶面(target plane) 激光和样品作用区域沿样品表面的切线表面。 光斑有效面积(effective beam area) 激光能量与最大能量密度的比值或者激光功率与最大功率密度的比值。 光斑有效半径(effective beam radius) 激光有效面积的平方根除以pi。 脉冲有效宽度 脉冲总能量与脉冲最大功率的比值。 损伤测试的重要概念 能量密度(fluence) 其中E0是能量，ω0是1/e2直径。 高斯光束(Gaussian beam) 能量截面符合下式的被称为高斯光束 其中E0是能量，ω0是1/e