半导体光电厂系统概述精品.pptVIP

* 廠務系統概述 0.電子廠名言 0.電子廠名言 唯一的不變就是永遠在變 唯一確定的就是還沒決定 所以 ~接下來介紹的在現場都不是絕對的~ 1.廠務系統功能 1.1 水系統在製程中的功能 PCW 製程冷卻水 製程機台冷卻 UPW/DIW 超純水 補水/清洗/稀釋 Chill Water 冰水 冷卻用冷源/空調用冰水 RW 回收水 DI回收/冷凝回收/再生使用 CW 自來水 原水/一般用水 1.2 氣體系統在製程中的功能 CDA 壓縮乾燥空氣 搬運器/儀器之氣壓缸/一般沖吹 GN2 一般氮氣 Purge/CDA Backup/潔淨沖吹 PN2 純化氮氣 Purge/空間填充/超潔淨沖吹 其他B-GAS 大宗氣體 製程需求/Purge/空間填充/超潔淨沖吹 S-GAS 特殊氣體 製程Chamber填充需求/乾蝕刻製程需求 1.3 化學系統在製程中的功能 Chemical 化學藥品 清潔清洗/濕式蝕刻製程需求 1.4 真空系統在製程中的功能 PV 製程真空 基板吸引般移 HV 清潔真空 塵屑吸引清潔/真空吸筆 Pump Line 製程高真空 Chamber製程轉換之高真空建立 Exhaust 排氣系統 Chamber製程轉換之廢氣排除 Drain 排水系統 機台製程使用之廢DI/Chemical排放 1.5 排氣/排水系統在製程中的功能 2.廠務系統使用材質 2.1 水系統使用材質