1-4丁炔二醇和乙二胺对离子液体电沉积Cu的影响.pdfVIP

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2016-02-27 发布于天津
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第 30卷第 4期无机化学学报 V01．30No．4 2014年 4月 CHINESEJOURNALOFINORGANICCHEMISTRY 952—960 1-4丁炔二醇和乙二胺对离子液体电沉积 Cu的影响燕波张锦秋杨培霞安茂忠 (城市水资源与水环境国家重点实验室，哈尔滨工业大学化工学院，哈尔滨 150001) 摘要：研究了 1．4丁炔二醇和乙二胺作为添加剂对在离子液体 1一甲基 3．甲基咪唑三氟甲磺酸盐中电沉积 Cu的影响。紫外可见光吸收光谱结果表明，当采用 1—4丁炔二醇作为添加剂时，1—4丁炔二醇吸附在工作电极表面且未与溶液中的Cu形成配合物。扫描电镜测试结果表明由于 1．4丁炔二醇与离子液体的正离子的竞争吸附使得 Cu的沉积电势发生正移并使镀层表面更加均匀平整当采用乙二胺作为添加剂时．紫外可见光吸收光谱和循环伏安测试结果表明乙二胺与溶液中的Cu2+离子形成带有正电荷的络合离子使得 Cu的沉积电势发生正移．扫描电镜和原子力显微镜测试结果表明得到了更加均匀的镀层当同时加入 1．4 丁炔二醇和乙二胺时．Cu的沉积电势仍然发生正移并得到具有纳米粒径的镀层关键词：添加剂；离子液体；电沉积；Cu镀层中图分类号：O614．121；TQ047．1；TQ153．1 文献标识码：A 文章编号：1001—4861(2014)04—0952—09 DoI：10．11862／CJIC．2014．121 Effectof2-Butyne-1，4-diolandEthyleneDiamineon Electr0depOsitiOnofCufrom IonicLiquid YANBo ZHANGJin-Qiu YANGPei-Xia ANMao-Zhong (StateKeyLaboratoryofUrbanWaterResourcenadEnviroriment，SchoolofChemicalEngineering nadTechnology,HarbinInstituteofTechnology,Harbin150001，China) Abstract：Theeffectofadditives，2-Butyne-1，4-diol(BDO)andethylenediamine(EDA)，wasinvestigatedonthe electrodepositi0n0fCufrom 1-hexyl-3一methylimidazoliumtrifluoromethanesulfonate([HMIMIOTF)．Theresultsof UV—Visabsorption spectraand CyclicvoltammogramsindicatethatthereductionpotentialofCu shiftstothe positivesidewith theaddition ofBDO withoutanychangesin the coordination environmentofCu¨．The adsoprtionofBDO on surfaceofworkingelectroderesultsinachangeinmoprhologyoftheobtaineddeposit．In thepresenceofEDA，thecoordinationenvironmentofCu ischanged，suggestingtheformationofanewcomplex byCu andEDA．ThedepositionpotentialshiftstothepositivesidewithadditionofEDA．Scanningelectron microscopeandatomicforcemicroscopetestsshow thatthesurfacemoprhologyoftheobtaineddepositisfl