垂直碳纳米管阵列的生长控制研究进展.pdfVIP

化 工 进 展 2014年第 33卷第 6期 CHEMICALINDUSTRYANDENGNIEERINGPROGRESS ·1491· 垂直碳纳米管阵列的生长控制研究进展 梁尤轩 ，赵斌 ，姜川 ，杨俊和 (上海理工大学能源与动力工程学院，上海 200093； 上海理工大学材料科学与工程学院，上海 200093) 摘要：垂直碳纳米管 (VACNT)阵列由于具有良好的排列、优异的导电导热能力、高比表面积、高纯度等优点 而得到广泛应用。本文概述 了用于碳纳米管阵列生长的热化学气相沉积 (CVD)制备方法的最新进展 ，重点阐 述了CVD法生长碳纳米管阵列的动力学与生长终止机理，指出CVD过程中的催化剂形貌演化是引发碳纳米管 阵列生长停止的重要原因。介绍了人们通过生长条件控制与催化剂设计等方法调控碳纳米管阵列结构 (包括管 壁数、管径和密度 )方面取得的进展 ，指 出碳纳米管阵列的大批量制备及结构参数 的精确调控是未来发展的 重点。 关键词：