等离子体基离子入表面改性层的数值模拟研究.pdf

摘要 摘要 Ion 本文针对等离子体基离子注入 PlasmaBased 建立了鞘层扩展的等离子体粒子模型，模拟了在脉冲偏压作用下，离子鞘层的 形成及其扩展的动力学行为；利用模拟得到的离子入射参量，结合TRIM程序， 模拟了注入元素在改性层中的分布。通过设计并进行计算机试验，系统考察了 PBII工艺参数、注入离子种类、靶的形状及尺寸对入射离子在工件表面分布的 影响，探讨了保形性注入的变化规律，分析了改性层成分分布规律及其影响因 素。 对二维典型形状工件进行等离子体粒子模拟，不仅可以掌握离子鞘层的结 构特性及其扩展规律，还能获得入射离子的能量分布谱和角度分布谱．为注入 层的成分分布模拟提供前提条件。根据TRIM程序模拟得到单一能量离子注入 表面改性层的成分分布，利用加权叠加的方法，获得注入离子沿注入深度方向 上的浓度深度分布。 模拟结果表明，鞘层内电场受到靶形状的影响而呈不均匀分布，并且随着 脉冲的推进鞘层与靶的保形性逐步变差。靶的形状、尺寸以及脉冲波形会对鞘 层结构及其扩展方式产生很大的影响，并影响鞘层内的离子密度分布。鞘层内 不均匀的电场，决定了加速于其中的离子的运动特性，对靶表面的注入参量产 生一定的影响。在靶形状和鞘层形状差异较大的部位 如凹槽侧壁和V形试样 内角附近 ，离子由于自身的惯性，其运动轨迹的曲率小于电力线的曲率，最终 以倾斜的入射角注入