光学薄膜制备绪论课解析.pptVIP

热电阻加热 特点： 结构简单、成本低廉、操作方便； 电阻片加热温度有限，高熔点的 氧化物大多无法蒸镀 蒸发速率低； 合金或化合物加热会导致分解。 膜质不硬，密度不高 蒸发源材料： 钨（W,TM=3380℃） 钼（Mo,TM=2980℃） 钽（Ta,TM=2630℃）等 电子枪蒸镀法 特点： 比起热电阻污染少，膜品质较高； 蒸发范围广，可蒸镀熔点较高之氧化膜 热效率高、热传导和热辐射损失小 可以镀多层膜 镀膜过程中使用不同材料需要不时调换 磁控溅镀 特点： 利用磁场作用，提高溅镀速率 提高薄膜的品质 磁场会把电子偏离基板，故可以在一些较不耐温的基板上镀膜 可以做成连续的溅镀系统，连续工作 离子束溅镀 特点： 制作的薄膜密度高，散射小 膜折射率稳定均匀，膜厚精准 可以配合其他制镀方法，提高制镀速率 增加了控制的自由度 离子束助镀 特点： 配以蒸镀或溅镀系统，提高镀膜速率 成膜纯度高，膜变得更缜密 光谱特性稳定 提高了膜层折射率的均匀性 镀膜厚度监控的方法 石英晶体监控法 特点： 石英晶体振荡的频率与晶体上薄膜的质量成反比 是一种薄膜质量测量方法，它也被称为质量微天平 厚度显示不稳定，做精密光学薄膜数据只作参考，只作为镀膜速率的控制 光学膜厚监控系统 光学参数测量 由分光光度计量出薄膜的透射率及反射率进而推算出n、k、d