mosfet探器测量组织补偿胶对表面剂量的影响
MOSFET 探测器测量组织补偿胶对表面剂量的影响 中文摘要
中文摘要
目的 使用金属氧化物半导体场效应晶体管探测器(MOSFET )测量表面剂量,
探讨X射线、电子线照射时不同厚度组织补偿胶对表面剂量的影响,为临床放疗提
供剂量学实验依据。
方法
1. 将MOSFET探测器进行剂量刻度,计算出探头的校准因子。
2. 实验分为六组,选用6MV、15MV X射线进行照射,未加组织补偿胶为0组,
加上组织补偿胶后按厚度从小到大(3mm,5mm,10mm,15mm,20mm )依次记为Ⅰ、
Ⅱ、Ⅲ、Ⅳ和Ⅴ组,MOSFET探测器的探头置于体模表面, Ⅰ~Ⅴ组将组织补偿
胶敷贴于体模表面照射,0组直接照射。照射条件:源皮距为100cm,射野大小
10cm×10cm,加速器输出100MU,对应剂量100cGy。MOSFET探测器测量各组剂
量,每组测10次。
3. 选用6MeV、9MeV、12MeV电子线进行照射,方法同2 。
结果
1. 6MV X射线照射时测得探头的校准因子平均值为3.88mV/cGy,由于同一探
头对各能量X射线、电子线有较好
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