半导体物理基础 第二章知识点回顾 1,杂质在晶体中的存在方式,替位式杂质和间隙式杂质。 2,施主杂质和施主能级的概念,形成方式,电离过程,N型半导体。类似分析受主杂质。 3,浅能级杂质和深能级杂质的概念。氢原子电离模型。 4,缺陷和位错。 第三章 半导体中载流子的统计分布 第三章 半导体中载流子的统计分布 3.1 状态密度 3.2 费米能级和载流子的统计分布 3.3 本征半导体的载流子浓度 3.4 杂质半导体的载流子浓度 3.5 简并半导体 引言 半导体的性能的决定者:电子 半导体导电性能的变化是由电子的数量的变化决定的。电子的数量是关键因素。 没有外界作用时,电子靠热激发产生。 热激发:本征激发、杂质电离 电子同时以一定的几率由高能态跃迁至低能态,与空穴中和,称为复合。 热平衡状态 在一定温度下,载流子的产生和载流子的复合建立起一动态平衡,这时的载流子称为热平衡载流子。 半导体的热平衡状态受温度影响,某一特定温度对应某一特定的热平衡状态。 半导体的导电性受温度影响剧烈。 如何得到载流子的浓度? 态密度的概念 能带中能量 附近每单位能量间隔内的量子态数。 能带中能量为 无限小的能量间隔内有 个量子态,则状态密度 为 态密度的计算 状态密度的计算 单位 空间的量子态数 能量 在 空间中所
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