表面处理工艺__PVD及他.ppt

宝山壁画 宝山壁画是引人注目的昂贵文物。此壁画发现于阿鲁科尔沁旗东沙布乡境内。1994年列为“全国十大考古新发现”之一。宝山壁画中最引人注目的是《杨贵妃教鹦鹉图》。该画高0.7米、宽2.3米，用于笔重彩绘制，最突出的表现了 晚唐风格。唐代擅长绘贵妇仕女的大师周昉绘制了《杨贵妃教鹦鹉图》，不仅享誉中原，而且还影响全国各地。发现于阿旗宝山古墓里的这幅画，就是契丹人聘请中原画家按照周氏风格绘制的， 技法深得周氏画风的真传。在唐人真迹稀如星风的今天，能够从中完整了解唐代人物画的杰出成就，堪称美术史研究的辛事。这幅壁画现今保存在阿鲁科尔沁旗博物馆，历经千年，恍如新绘，是该馆的镇馆之宝。 欢迎大家观看！ 3层增透膜的膜料选择 膜料对膜层效果有决定性的影响。除了理想的折射率，每次镀膜时稳定的折射率，均匀的膜层，低吸收性，牢固性，稳定性也非常重要。 [color=#ffffff]字串5[/color] MgF2是最常用的第三层低折射率物质。但是，由于塑料不能被高温加热，用MgF2会使膜层变软和不稳定，此时，SiO2是最佳的选择。 Al2O3是最常用的第一层中折射率物质。它的膜层从红外到紫外线有相当高的透过率，十分牢固，稳定，并且每次镀膜时有稳定的折射率。 [color=#ffffff]字串3[/color] ZrO2通常被用作第二层高折射率物质。它的优点是从250到7000nm有宽广的透过率，并且，膜层牢固，稳定。但是，每次镀膜时呈现不同的折射率，也就是折射率会随着膜厚的增加而降低，这种现象可能和它的特殊晶体结构有关。在五个单独的膜层中ZrO2不同的折射率。我们可以看到和和同次性的膜料相比，折射率有急剧的上升，特别是在中段。ZrO2的另一个缺点是在蒸发是它只是部分的溶解，因此，很难得到均匀的膜厚。 * 按照反应类型分类 按照电源类型分类 中频溅射是指采用频率为10~100kHz的溅射电源，常用来进行反应溅射，如金属氧化物、 氮化物及碳化物等。另外，对于 一些不易找到块材料制成靶材的 镀膜或陶瓷靶材在溅镀后，薄膜 成分易偏离原靶材成分，也可通 过反应沉积来获得改善。 用来进行介质膜的溅射，如在玻璃上镀ITO膜之前需镀上一层SiO2扩散隔离层,该SiO2膜就是采用射频溅射。 通常在溅镀过程中辉光放电中的离子撞击到阴极时，会与阴极的 电子中和，使得溅射现象可以继续 进行。但若靶材本身不导电的话， 离子撞击到靶材上没有电子中和， 正电荷一直累积，便与后来的离子 排斥，这会造成离子撞击现象的停 顿。高周波电源取代直流电源，便 可解决此问题。 * 欲溅射材料无限制, 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用（例：铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽SiO2等）。 被溅射基材几无限制（ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等）。 膜质致密均匀、膜厚容易控制。 附著力强（ASTM3599方法测试4B * 金属在特定的环境下(压力，温度，电磁场等)与各种气体(氮气，氩气，氧气及乙炔气等)产生综合作用形成等离子体，经过加速后，等离子体涌向被镀工件表面，形成牢固的膜层。用此法镀制的膜层细密均匀，结合力强，硬度高，防腐耐磨，具有良好的导电性和自润滑性能，同时色泽丰富多样，不仅是提高材料使用性能的有力手段，在装饰上同样是提升档次，提高附加价值的最佳选择。 * 离子镀的作用过程如下:蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于真空罩内充有惰性氩气，在放电电场作用下部分氩气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同氩离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。这就是离子镀的简单作用过程。 * 硬化后的硬度可达4-6H * 正硅酸乙酯在催化剂的作用下，水解生成乙醇和二氧化硅溶胶或水凝胶的反应。控制在适当的条件下，该二氧化硅产物是具有一定聚合度的，表面富含羟基的二氧化硅活性体 采用溶胶凝胶法，可制得超细、均匀粒度的溶胶，也可获得最终产物硅凝胶。工艺线路为：水解到升温反应最后蒸馏除水。在制备工艺中，影响溶胶性质的因素很多，如用水量、添加酸的种类及添加量、制备温度、搅拌速度等。采用过量水解的方法以获得更多的中间活性官能团羟基，用水量选择为8：1，酸的种类经过比较，高氯酸和盐酸均为理想的选择，基于价格的考虑，选用价格低廉的盐酸用量比例为