冲击压缩下钨靶对514.5nm激光的漫反射率.pdfVIP

第 ∞ 卷 第 期 高 压 物 理 学 报 Vo1.13,No1 年 月 CHINEsE JOURNALF o Η Η G PREsSURE PHYsICS Mar, ,1999 514.5nm激 冲击压缩下钨靶对 光 · 的漫反射率 a,b a 程 锋a 马如超a姚建铨b 李泽仁 刘 俊 晓 (a.中 体 物理研究所 ,成都523信 箱 610003) 物 院流 (b.天 学 密仪器 与光 电子学 院 ,天津 300072) 津 大 精 摘 要 在 二 级 轻 气炮 上完 成 了一 系列 铜 飞 片 平 面碰 撞 钨 靶 的实验 ,并 测 量 了钨 靶 在 85~ 。 验 结 果显示 :冲击 压 缩使 钨靶 表 514.5nm人 激光 的漫 反射 率 实 250GPa的冲击 压缩 下 ,对 波长 射 165GPa压 近 出现漫反射率相对增大 的现象 。 面 的漫反射 能力 降低 ,但 不是单调下 降的 ,并 在 力 附 关键词 表面漫反射 冲击压缩 钨靶 激光 中图法分 类号 0座 82.3 ○313,4 1前 言 之一 。 态光学仪器 的设计 与 光学技术是冲击波与爆轰波物理研究 中的主要诊 断技术 在瞬 应用 中,需要对进入测试 系统 的光能量进行预估 ,因 为光 能量过高 ,将使探测器饱和 ,而 光能量 以 。 在 际预估 中,任 何有效 的光 能量数据都 与靶板在 冲击压 过低 ,将使信号太小而难 分辨 但 实 。 此 ,本研究 的 目的一是揭示钨靶在高压下 的动态光学特 缩过程 中的瞬态漫反射率密切相关 因 征 ,另 一是为瞬态光学仪器 的设计 与应用提供分析数据 。 在静态条件下 ,有 关金属表面漫反射特性 的研究 已有大量报道E1~3彐,其 内容不但涉及漫反 [5彐 E6彐 E4彐 、 光 、 射光强与表面粗糙度 激 、 度 函数 漫反 射率 ,而 且还包括漫反射光强度 的空 间分布 亮 E7,引 。 而 ,上述各项研究大多是静态 的,有 关冲击压缩下金属表面的漫反射特性 波长 的关系等 然 。 二 级 轻 气 炮 上 将 钨 靶 冲击 压 缩 到 高 压 状 态 ,实 验 测 量 了该 靶 对 研 究 的报 道 甚 少 我 们 在