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微电子学概论第五章集成电路设计 5.1 集成电路设计特点 5.1 集成电路设计特点 设计的基本过程 功能设计 逻辑和电路设计 版图设计 集成电路设计的最终输出是掩膜版图，通过制版和工艺流片可以得到所需的集成电路。 设计与制备之间的接口：版图 集成电路设计特点及设计信息描述 典型设计流程 典型的布图设计方法及可测性设计技术 5.1.1 设计特点 什么是集成电路？ 把组成电路的元件、器件以及相互间的连线做在单个芯片上，封装到管壳中，通过外部的引脚完成电路功能。 什么是集成电路设计？ 根据电路功能和性能的要求，在正确选择电路形式、器件结构、工艺方案和设计规则的情况下，尽量减小芯片面积，降低设计成本，缩短设计周期，以保证全局优化，设计出满足要求的集成电路。 设计特点和设计信息描述 什么是分层分级设计？ 将一个复杂的集成电路系统的设计问题分解为复杂性较低的设计级别，这个级别可以再分解到复杂性更低的设计级别；这样的分解一直继续到使最终的设计级别的复杂性足够低，也就是说，能相当容易地由这一级设计出的单元逐级组织起复杂的系统一般来说，级别越高，抽象程度越高；级别越低，细节越具体。 5.1.1 设计特点 设计特点 (与分立电路相比) 对设计正确性提出更为严格的要求 测试问题 版图设计，布局布线 分层分级设计 (阶层的设计) 和模块化设计 从层次和域表示分层分级设计思想 域： 行为域：集成电路的功能 结构域：集成电路的逻辑和电路组成 物理域：集成电路掩膜版的几何特性物理特性的具体实现 层次：系统级，算法级，寄存器传输级 (也称 RTL 级),逻辑级与电路级 版图 自顶向下设计（ top-down) （1）系统功能设计 （2）逻辑与电路设计 （3）版图设计 系统功能设计 输出：语言或功能图 软件支持：多目标多约束条件优化问题 无自动设计软件 仿真软件： VHDL 仿真器,Verilog 仿真器 算法级：包含算法级综合：将算法级描述转 换到 RTL 级描述 综合：通过附加一定的约束条件从高一级 设计层次直接转换到低一级设计层 次的过程 逻辑级：较小规模电路 功能块划分原则： 既要使功能块之间的连线尽可能地少，接口清晰，又要求功能块规模合理，便于各个功能块各自独立设计同时在功能块最大规模的选择时要考虑设计软件可处理的设计级别。 概念：满足一定逻辑或电路功能的由逻辑或电路单元组成的逻辑或电路结构 过程： A. 数字电路： 在RTL 级描述通过逻辑综合软件 得到门级逻辑网表（连接关系） 再用逻辑模拟与验证，时序分析和优化 完成 电路实现（包括满足电路性能要求的电路结构和元件参数)：调用单元库完成； 没有单元库支持：对各单元进行电路设计，通过电路模拟与分析，预测电路的直流、交流、瞬态等特性，之后再根据模拟结果反复修改器件参数，直到获得满意的结果。由此可形成用户自己的单元库 B. 模拟电路： 尚无良好的综合软件 RTL 级仿真通过后，根据经验进行电路设计 单元库：一组单元电路的集合 经过优化设计、并通过设计规则检查和反复工艺验证，能正确反映所需的逻辑和电路功能以及性能，适合于工艺制备，可达到最大的成品率。 元件门元胞宏单元（功能块） 基于单元库的描述：层次描述 单元库可由厂家提供，可由用户自行建立 概念：根据逻辑与电路功能和性能要求以及工艺水平要求来设计光刻用的掩膜版图。 集成电路设计的最终输出。 什么是版图？一组相互套合的图形，各层版图相应于不同的工艺步骤，每一层版图用不同的图案来表示。 版图与所采用的制备工艺紧密相关 版图设计过程 大多数基于单元库实现 （ 1 ）全自动软件自动转换到版图，可人工调整（规则芯片） （ 2 ）半自动布图规划工具 人工进行布图规划： 物理划分，芯片面积和形状，单元区位置，功能块的面积形状和相对位置，输入／输出位置， 然后自动布线。 （ 3 ）全人工版图设计：人工布图规划，提取单元，人工布局布线（由底向上：小功能块到大功能块） 设计规则的例子（双极） 设计规则的例子（ Al 栅 MOS) 门阵列设计小结 引线孔以前的工艺完全作好，形成母片 根据电路要求设计引线孔 开引线孔，金属布线： 2 块版 门阵列的优点 设计周期短，成本低门阵列的缺点 门利用率低，灵活性差，布通率低改进：标准单元，最常用的 ASIC 标准单元 标准单元库： 在