CleanerEQ结构和原理(改)分析报告.pptVIP

May 2003 OLED Team HF EUV（Excimer UV） EUV（Excimer UV） Disk Brush Roll Brush MS（Mega Sonic） CJ（Cavitation Jet） BJ（Bubble Jet） Hyper Jet Hyper Mix Pre-depo Cleaner Unit Air Knife Ionizer Clean需监控的参数 Contect Angel 清洗不良造成的defect * OLED-Array * EUV:Excimer Ultra-Violet紫外光激发 AP：Air plasma电激发气体中的氢气和氧气，激发氢原子，氧原子。 金属离子：会造成低击穿场强、PN结漏电、Vt偏移、少子寿命降低。 pre-GI:出去poly表面的氧化层，平坦表明啊突起 pre-ILD: pre-M2:清洗ILD刻孔内的poly层，使M2与poly更好的连接 ashing:去除PR PLN ashing用于去除PLN残留，降低接触电阻。 QC：quality control质量控制 超声波在液体中疏密相间地向前辐射，使液体流动并产生数以万计的微小气泡。 这些微小气泡是在超