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金属氧化原理 布里斯托大学威尔士物理实验室 卡布瑞拉、莫特 目录 页码 §1.引言...........................................................163 1.1 在低温下所形成的稳定的氧化薄层............................163 1.2 中间温度区域.............................................. 1.3 抛物线法则................................................ §2.膜厚的抛物线法则............................................... §3.氧化薄膜形成原理............................................... §4.非常薄的氧化膜的形成........................................... 4.1 形成的过剩半导体（铝）氧化物的数量值...................... 4.2 吸引氧气的氧化物；以铜为例................................ §4.氧化膜的粘附及其晶体结构....................................... § 1.