线路板废水处理(制药废水处理)铁碳填料.docVIP

线路板废水处理(制药废水处理)铁碳填料.doc

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线路板废水处理普茵沃润铁碳微电解填料是目前处理印染、电镀、造纸、医药、硝基苯、苯胺、有机硅、印刷线路板、焦化、畜牧、双氧水化工、石油化工、橡胶助剂化工以及含苯环化工废水的一种理想工艺。线路板废水处理方法线路板废水处理方法: 线路板废水处理方法有化学法(化学沉淀法、离子交换法、电解法等)、物理法(各种滗析法、过滤法、电渗析、反渗透等),化学法是将废水中的污染物质转化成易分离的物态(固态或气态),物理法是将废水中的污染物富集起来或将易分离的物态从废水中分离出来,使废水达到排放标准。国内外采用的方法有以下几种。 一、? ?? ?滗析法 滗析法实际上是过滤法,是物理法的一种。去毛刺机排出的含有铜屑的冲洗水,经过滗析器处理,可过滤除去铜屑。经滗析器过滤的出水可回用毛刺机的清洗水。 二、? ?? ?化学法 化学法包括氧化还原法和化学沉淀法。氧化还原法是利用氧化剂或还原剂将有害物质转化为无害物质或易沉淀、析出的物质。线路板中的含氰废水和含铬废水常采用氧化还原法,详见后面说明。 化学沉淀法是选用一种或几种化学药剂使有害物质转化为易分离的沉淀物或析出物。线路板废水处理选用的化学药剂有多种,如NaOH、CaO、Ca(OH)2、Na2S、CaS、Na2CO3、PFS、PAC、PAM、FeSO4、FeCl3、ISX等,沉淀剂能把重金属离子转化成沉淀物,然后通过斜板沉淀池、砂滤器、PE过滤器、压滤机等,使固液分离。 三、? ?? ?化学沉淀——离子交换法 化学沉淀处理高浓度线路板废水一步达到排放标准是比较困难,常和离子交换法结合使用。先用化学沉淀法,处理高浓度的线路板废水,使其重金属离子的含量降低到5mg/L左右,再用离子交换法,把重金属离子降低到排放标准。 四、? ?? ?电解——离子交换法 电解法处理高浓度线路板废水可降低重金属离子的含量,其目的同化学沉淀法一样。但电解法不足之处是:只对高浓度的重金属离子处理有效,浓度降低,电流明显下降,效率明显减弱;耗电量大,推广较困难;电解法只能处理单一金属。电解——离子交换法就是镀铜、蚀刻废液,对于其它废水,还要用其它方法处理。 五、? ?? ?化学法——膜过滤法 线路板企业的废水通过化学预处理,使有害物质沉淀出可过滤的颗粒(直径>0.1μ),再经膜过滤装置过滤,就能达到排放标准。 六、? ?? ?气态凝聚——电过滤法 气态凝聚——电过滤法是美国在80年代开发出来的一种不加化学药剂的新颖废水处理法,属于一种物理方法来处理印制电路板废水。包括三个部分,第一部分是离子化气体发生器,空气被吸入该发生器,能过离子化磁场改变其化学结构,变成高度活化的磁性氧离子和氮离子,用射流装置把这种气体引入废水中,使废水中的金属离子、有机物等有害物质氧化并聚集成团,易于过滤除去;第二部分是电解质过滤器,过滤除去第一部产生的聚团物质;第三部分是高速紫外线照射装置,紫外线射入水中可氧化有机物和化学络合剂,降低CODcr和BOD5。目前,已开发出成套一体化设备可直接应用。 以上是印制线路板废水的处理方法,各种方法应综合考虑技术、能源、经济效益和社会效益。目前,国内大多使用化学沉淀法或化学沉淀——离子交换法。 线路板废水污染物化学法反应原理 线路板废水中的污染物可分为两大类:Cu2+、Pb2+、Ni2+、Sn2+;无机污染物PO43-、F-、SS、PH和CODcr等,有的厂家有电镀生产线,排放废水中含有Cr6+或CN-。线路板废水中常用的化学反应原理如下。 ? ?? ?破氰反应(次氯酸钠破氰) 一级破氰反应(局部氧化法): CN-??+??ClO-??+ H2O =??CNCl??+ 2OH-? ?(PH值任意) CNCl +??2OH-??=??CN 0-??+ Cl-??+??H2O (PH=9.5-11) 二级破氰反应(完全氧化法): 2CN 0- +??H2O + 3ClO- =??N2??+2 CO2 ↑+ 3Cl- +??2OH- 副反应: 2Cu(CN)2-4+9ClO- +2OH-+ H2O??=??8CN 0-+9Cl- +2Cu(O H)2 ◆? ?? ?破铬反应(亚硫酸氢钠破铬) ? ? Cr2O72- + 3HSO3- + 5H+?? 2Cr3+ +??3SO42-??+ 4H2O(酸性条件) Cr3+??+ 3OH-?? Cr(OH)3(碱性条件) ? ?? ?置换反应(铁屑置换铜反应) Fe –2e??=??Fe 2+(酸性条件) Fe + [Cu(NH3)]+??Fe 2+ + Cu +(NH3) Fe2+ –e??=??Fe 3+(酸性条件) ? ?? ?沉淀反应 Cu2+??+??2 OH-??=? ?Cu(OH)2 Ni2+??+??2 OH-??=? ?Ni(OH)2 Sn2+??+??2 OH

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