关于用离子镀取代部分电镀与化学镀技术论证.docVIP

脉冲多弧等离子体镀膜技术及设备 （关于用离子镀取代部分电镀及化学镀的技术论证） 前言 离子镀技术是目前国内外制备高质量涂层的最主要方法之一，其基本原理就是在镀膜的同时，采用高能粒子轰击基片表面和膜层。因此，镀层的质量及膜层与基体的结合力得到大幅度的提高。武汉科技大学从20世纪80年代中期开始该项目的研究工作，通过近二十年的探索与实践，成功开发出了“脉冲多弧等离子体镀膜技术及设备”,并申请了“一种多功能多弧等离子沉积装置”国家专利（专利号：ZL200520095004.9）。该设备主要由真空系统、脉冲蒸发源系统、高压电源及控制系统、离化系统及阴极系统等组成，不仅可以代替电镀及化学镀制备各种纯金属镀层，而且还可以制备化合物及陶瓷涂层。此外，通过特殊配备的纳米粉收集装置，该设备还可以制备多种纯金属及陶瓷纳米材料。该技术及设备制备的各种耐蚀、耐磨、耐热、润滑、装饰镀层及纳米材料在机械、微电子、冶金、纺织、化工等行业具有广阔的应用前景。 2.电镀及化学镀的原理及应用 2.1电镀原理及其应用 电镀是用电化学方法在固体表面上沉积一薄层金属或合金的过程。工艺较成熟，应用极广泛。能在表面镀覆的单金属有20多种，合金镀层也有20种左右。常用的电镀材料有铬、镉、锌、金、银、铜等金属以及黄铜等合金。 电镀层广泛用作抗蚀、耐磨、装饰、润滑镀层和其它功能性镀层（如磁性、导电、光学膜等）。对镀层基本要求是致密的