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第 卷第 期 年 月 43 9 红外与激光工程 2014 9 Vol.43 No.9 Infrared and Laser Engineering Sep.2014 毛细管内径对Xe 气放电极紫外光源的影响 徐 强 ，赵永蓬 ，李 小强 ，李 琦 ，王 骐 (哈 尔滨工业 大学 可调谐 激光技 术 国家级重点 实验 室 ，黑龙 江 哈 尔滨 150001) 摘 要： 极 紫外光 源功率是影响光 源使 用的关键参数 ， 研 究放 电等 离子体 EUV 光 源等 离子体 时间特 性 ，优化放 电结构和光源功率具有重要意义。 理论上计算 了不 同内径毛细管 内等 离子体压缩过程和收集 效率 ，实验上采用极 紫外探 测器测量 了毛 细管 内径对 Xe 气极 紫外光 源 13.5 nm(2%带宽)辐射输 出时间 特性的影响 ，分析 了毛细管 内径对等 离子状 态的影响 。 结合该 系统光 学收集 系统设计参数 、不 同内径毛 细管收集效率和极 紫外探 测器信 号强度 ，给 出了不 同 内径毛 细管 中间焦点处 13.5 nm (2% 带宽) 光功率 比。 结果表 明 ：气压 7 Pa 、电流 28 kA 时，毛细管 内径 7 mm 条件下 ，光源 中间焦点处光功率最优化 。 关键词： 毛 细管放 电； 极 紫外光刻光 源 ； Xe 等 离子体 ； 13 .5 nm 辐射 ； Z 箍缩 中图分类号： TN23 文献标志码： A 文章编号： 1007-2276(2014)09-2873-05 Influence of capillary inner radius on Xe gas discharge extreme ultraviolet source Xu Qiang, Zhao Yongpeng, Li Xiaoqiang, Li Qi , Wang Qi (National Key Laboratory of Tunable Laser Technology , Harbin Institute of Technology , Harbin 150001, China) Abstract : The power of the 13 .5 nm (2 % bandwidth) emission is one of the key parameter for the EUV source . It ′s important to study the temporary of the plasma in the capillary , which is useful to optimize the discharge structure and the EUV source power . In this paper , the pinch process of the plasma and the collection efficiency under different inner radiuses of the capillary were calculated theoretically . And the influence of the i