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第 19卷 第 1期 电化学 Vol.19 No.1
2013 年2 月 JOURNALOFELECTROCHEMISTRY Feb. 2013
文章编号:1006-3471(2013)01-0029-08
野电极/溶液冶界面的椭圆偏振测量技术研究进展
雷惊雷袁吴良柳袁李凌杰袁巫生茂袁张胜涛*
渊重庆大学化学化工学院袁重庆400044冤
摘要院椭圆偏振测量技术是通过解析偏振光束在界面上或薄膜中反射或透射时偏振状态的变化袁获取界面或薄
膜的厚度尧复折射率等性质的一种光学方法袁是一种高灵敏度尧非破坏性的原位实时表征技术袁被广泛应用于野电
极/溶液冶界面的研究.本文简要介绍了椭圆偏振测量技术的基本原理及其最新发展袁并着重评述了能源电化学尧
材料电化学尧电分析与生物电化学等领域中袁应用椭圆偏振测量技术研究野电极/溶液冶界面的现状.
关键词院椭圆偏振测量技术曰光谱电化学曰界面曰表面
中图分类号院O646 文献标识码院A
野电极/溶液冶界面是发生电化学反应的场所袁 1方法原理及发展
其结构尧 性质对电极过程有着直接而重要的影响袁 以经典的野环境媒质-薄膜-基底冶单层膜系统
因此获取反应过程中野电极/溶液冶界面的特征及动 为例袁简述椭偏术的基本原理. 当一束波长为姿 的
态变化(如物质吸脱附尧 表面膜生成或金属溶解 线偏振光以角度渍 入射到薄膜渊均匀平整袁厚度为
0
等)袁并由此推测电化学反应机理袁是电化学研究的 d冤表面时袁光波的电矢量可分解为平行于入射面的
重要内容之一.然而袁该界面的典型厚度属微米数 P分量和垂直于入射面的S分量渊分别称为P波和
量级袁并且电极处于溶液而不是真空环境中袁采用 S波冤. P波尧S波在媒质-薄膜尧薄膜-基底界面将发
常见的高灵敏度表征方法袁 如扫描电子显微镜 生多次反射和折射袁如图1所示院
(SEM)尧X 射线光电子能谱(XPS)等研究野电极/溶
液冶界面并不理想.深入研究野电极/溶液冶界面需有
特殊的技术.
椭圆偏振测量技术渊以下简称椭偏术冤是通过
解析偏振光束在界面上或薄膜中反射或透射时偏
振状态的变化而获取界面或薄膜特性的一种光学
[1-3]
方法 . 由于其可用于溶液环境之中袁且不干扰电
学信号的采集袁故可原位渊In Situ冤实时渊Real Time冤
监测电极反应过程中界面的动态变化曰同时袁椭偏
术可检测出相当于单分子层尺寸的表面膜厚度变
化袁具有较高的灵敏度袁因此椭偏术在野电极/溶液冶
界面研究中显示出了不可替代的优势袁是最早应用
图1 椭偏术基本原理(单层膜模型)
[1,4-5]
于电化学研究的原位光学方法 .本文在简介椭 Fig.1 Sketchofsinglefilmmodelofellipsometry
偏术原理的基础上袁结合该技术的发展袁着重介绍
了能源电化学尧材料电化学尧电分析与生物电化学
据光的折射定律和Fresnel反射公式袁可用如下
等领域中应用椭偏术研究 野电极/溶液冶 界面的现
[1,3]
軒 軒
状.
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