磁控溅射Al靶功率对类金刚石薄膜的结构和摩擦学性能影响.pdfVIP

第 ３１卷　第 ３期 摩 擦 学 学 报 Ｖｏｌ３１　Ｎｏ３ ２０１１年５月 Ｔｒｉｂｏｌｏｇｙ Ｍａｙ，２０１１ 磁控溅射Ａｌ靶功率对类金刚石薄膜结构 和摩擦学性能的影响 １，２ １ １ 周升国 ，王立平 ，薛群基 （１．中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室，甘肃 兰州　７３００００； ２．中国科学院研究生院，北京　１０００３９） 摘　要：本文采用中频磁控溅射金属Ａｌ靶，以ＣＨ 为反应气体，通过调整Ａｌ靶溅射功率，在ｐ（１００）单晶硅片和不 ４ 锈钢基底上成功制备出不同Ａｌ含量的Ａｌ／ａ－Ｃ∶Ｈ纳米复合薄膜．并利用ＨＲ－ＴＥＭ、ＸＰＳ、纳米压痕仪和摩擦磨损 试验机等手段分析和研究了Ａｌ／ａ－Ｃ∶Ｈ薄膜的结构、机械及摩擦学性能．结果表明：金属Ａｌ以纳米晶颗粒形式镶 嵌在非晶碳网络中，使得所制备Ａｌ／ａ－Ｃ∶Ｈ薄膜呈现出典型的纳米晶／非晶复合结构；同时，Ａｌ掺杂促进了薄膜中 ２ ｓｐ杂化碳形成，且有效地释放残余内应力．Ａｌ靶溅射功率为８００Ｗ时所制备的Ａｌ／ａ－Ｃ∶Ｈ薄膜具有结构致密、内 应力低、硬度高的特性；在大气环境中，该薄膜与ＳｉＮ 陶瓷球干摩擦时显示出优越的摩擦学性能，其摩擦系数约为 ３ ４ －１６ ３ ００５５，磨损率约为２．９×１０ ｍ／（Ｎ·ｍ）． 关键词：磁控溅射；Ａｌ／ａ－Ｃ∶Ｈ；纳米复合薄膜；摩擦学性能 中图分类号：ＴＨ１１７．３ 文献标志码：Ａ 文章编号：１００４－０５９５（２０１１）０５－０３０４－０７ ＥｆｆｅｃｔｏｆＡｌＴａｒｇｅｔＰｏｗｅｒｏｆＭａｇｎｅｔｒｏｎＳｐｕｔｔｅｒｉｎｇｏｎｔｈｅＳｔｒｕｃｔｕｒｅ ａｎｄＴｒｉｂｏｌｏｇｉｃａｌＰｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆＤｉａｍｏｎｄ－ｌｉｋｅＣａｒｂｏｎＦｉｌｍｓ １，２ １ １ ＺＨＯＵＳｈｅｎｇ－Ｇｕｏ ，ＷＡＮＧＬｉ－Ｐｉｎｇ ，ＸＵＥＱｕｎ－Ｊｉ （１．ＳｔａｔｅＫｅｙＬａｂｏｒａｔｏｒｙｏｆＳｏｌｉｄＬｕｂｒｉｃａｔｉｏｎ，ＬａｎｚｈｏｕＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＣｈｅｍｉｃａｌＰｈｙｓｉｃｓ， ＣｈｉｎｅｓｅＡｃａｄｅｍｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅ，Ｌａｎｚｈｏｕ７３００００，Ｃｈｉｎａ ２．ＧｒａｄｕａｔｅＳｃｈｏｏｌ，ＣｈｉｎｅｓｅＡｃａｄｅｍｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅ，Ｂｅｉｊｉｎｇ１０００３９，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ａｌｕｍｉｎｕｍ／ａｍｏｒｐｈｏｕｓｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｅｄｃａｒｂｏｎ（Ａｌ／ａ－Ｃ∶Ｈ）ｎａｎｏｃｏｍｐｏｓｉｔｅｔｈｉｎｆｉｌｍｓｗｅｒｅｄｅｐｏｓｉｔｅｄｏｎｓｉｌｉｃｏｎ ｐ（１００）ｗａｆｅｒａｎｄｓｔａｉｎｌｅｓｓｓｔｅｅｌｓｕｂｓｔｒａｔｅｓｂｙｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇｏｆａｌｕｍｉｎｕｍｉｎａｎａｒｇｏｎａｎｄｍｅｔｈａｎｅａｔｍｏｓｐｈｅｒｅｗｉｔｈ ｄｉｆｆｅｒｅｎｔＡｌｔａｒｇｅｔｐｏｗｅｒ．Ｔｈｅｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ，ｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅ，ｍｅｃｈａｎｉｃａｌａｎｄｔｒｉｂｏｌｏｇｉｃａｌｐｒｏｐ