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材料表面薄膜技术：杨烈宇。P253-260 Piezoresistance and electrical resistivity of Pd, Au, and Cu films:电子隧道效应与表面粗糙度对薄膜电阻的影响。 mean free path and effective density of conduction electeons in polycrystalline metal filmsd电子自由程对多晶金属电阻率的影响。 The electrical conductivity of thin metal films with very smooth surfaces具有光滑表面的金属薄膜的电导率 （1）金属薄膜电阻率与表面粗糙度、残余应力的关系 唐武1，邓龙江1，徐可为2，Jian Lu3 (1．电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室，四川成都610054) (2．西安交通大学，陕西西安710049) 薄膜表面的粗糙度可通过原子力显微镜测量，残余应力采用光学干涉的方法测定。 电阻率与表面粗糙度的关系： 随着表面粗糙度的增加薄膜 的电阻率一直在增加， 有关薄膜表面散射对薄膜电导的影响， 已经有很多人作过研究，目前认为比较符合实际情况 的是法奇斯(Fuchs)．桑德海默尔(Sondheimer)理论。由 桑德海默尔推导的薄膜电阻率的表达式很繁，当t2 时，在应用上