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第2部分 常用电子元器件的应用(2) 第2部分 常用电子元器件的应用 2.1 电阻器 2.2 电容器 2.3 电感器 2.4 晶体管 2.5 表面贴装元器件 2.6 光电耦合器 2.7 继电器 2.8 功率驱动 2.9 显示器件 2.4 晶体管 2.4.1 硅二极管和硅整流桥 1.硅整流二极管 硅整流二极管除主要用于电源电路做整流元件外,如图2.4.1所示还可以做限幅、钳位、保护、隔离等多种灵活应用。 图(c)中J为电磁继电器线圈,二级管将抑制此感性负载在晶体管T由饱和跳变到截止时所产生的大幅度的反向电动势,从而保护T。 图(d)为脉冲微分限幅电路,将在输出削去负尖脉冲。 图(e)为RAM数据保持电路。后备银锌电池E=3.6V,在RAM 正常工作时,RAM 由+5V电源供电,且可通过D 对E充电。断电时,RAM 由E 供电,D 将E 和电路+5V端隔离。 图(f)为RC 充放电电路。充电通过D1R1进行,而放电则通过D2R2 进行。 2.高速开关管 检波二极管 和整流管不同之处在于工作在小信号、高频率的电路中,如各种检波器。故其电流小,结电容小,工作频率高。 3.硅整流桥 常用硅整流桥分为单相半桥、单相全桥和三相全桥几种,如图2.4.2所示。 其中单相全桥在小功率整流电流中应用广泛,而三相全桥则在电力整流器、逆变器等大功率设备中使用。 常见硅整流桥的外形 4.肖特基(Schottky)二极管 肖特基二极管是由金属和半导体接触形成的,其制造工艺与TTL电路相类似,工艺步骤比较复杂。它不是利用PN结的单向导电性,而是利用势垒的整流作用和多数载流子导电,因而没有少数载流子的存储效应。因此具有反向恢复时间短(最低可达10ns)和正向压降低(可达0.2V)的突出优点。它主要用于开关稳压电流做整流和逆变器中作续流二极管。 5.快恢复(Fast Recovery)二极管 快恢复二极管工作原理与普通二极管相似,亦是利用PN结单向导电性,但制造工艺与普通二极管不同。 它的扩散深度及外延层(外延型)可以精确控制,因而可获得较高的开关速度,同时,在耐压允许范围内,外延层可做得较薄,正向压降较低。 它的反向时间约为0.2~0.75?s。 和肖特基二极管相比,其耐压高得多。它主要也用在逆变电源中做整流元件,以降低关断损耗,提高效率和减少噪声。 高速恢复二极管反向恢复时间可达25ns。 设计电路选用各种二极管时应注意以下几点: (1)电流减额 电流减额因子S≤0.5。如图2.3.1(a)的全波整流电路,若通过负载RL的平均电流IL0.5A,则应选择平均整流电流≥1A的普通硅整流二极管,如1N4000系列。 (2)注意浪涌电流 在某些应用场合,如图2.3.1(f)中的充放电电路,在开始充电瞬间通过D1的电流最大,选管时应予注意。 (3)反向峰值电压 图2.3.1(a)中整流二极管承受的最高反向电压VR=1.4V(V为变压器Tr次级绕组电压的有效值)。选管时应充分考虑电压减额。 (4)正向管压降 在低电压大电流的整流电路里,整流二极管的管压峰不能忽略。对于图2.3.1(e)的隔离二极管D,若希望RAM的VCC4.8V,则可以选用正向压降在0.1~0.2V之间的肖特基二极管。 (5)工作频率 二极管的最高工作频率与其结构与工艺密切相关,例如普通硅整流管PN 结为平台结构,结电容大,正向整流大,工作频率低。2AP型锗二极管为点接触型,结电容小、工作频率高,正向压降也小。 (6)反向漏电流 2.4.2 半导体三极管 1.常用小功率半导体三极管 金属封装 塑料封装 贴片 2.通用功率管 塑料封装 金属封装 达林顿(Darlingtons)功率管 3.双极性半导体三极管选用时的注意事项 (1)确定三极管的类型 首先必须根据电路的要求确定三极管的类型。多数场合设计者喜欢选用NPN型。但是如果需要低电平使三极和导通或需要采用互补推拉式(pull-push)输出,则必需使用PNP型晶体管。 晶体管工作于开关状态时,一般应选用开关参数(ton、toff、Ccb、fT)好的开关晶体管。若选用普通晶体管,则需选用fT100MHz的管子。而且实用时,其开关参数(如tr、tf)和集电极负载电阻、负载电容密切相关。集电极电阻愈小,开关速度愈快,但IC和管耗都会增加,应权衡决定。 (4)共射极交流小信号电流放大系数?(hFE) 小功率晶体管的共射极交流小信号电流放大系数?(hFE)较高,数字万用表测的是直流hFE,和交流hFE 接近,但有差异。大功率晶体管hFE要低得多。特别值得注意的是:即使是小功率晶体管在开关应用时,饱和状态的hFE,也远较正常值为小。 小功率晶体管应避免靠近发热元件,以减小温度
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