真空设备应用详解.ppt

LED 製作流程 原料：磷、砷、鎵 單晶成長 單晶片 磊晶膜成長： 液相磊晶(LPE) 氣相磊晶(VPE, MOCVD) 電極圖形製作 鍍製電極薄膜 晶片磨薄 鍍製電極薄膜 晶粒切割 封裝 成品 切割、研磨、拋光 上游 中游 下游 * 其它鍍膜應用 * 其它鍍膜應用 * 真空鍍膜未來 * * * 從上述中我們可以了解，真空鍍膜技術及設備在當今和未來都擁有十 分廣闊的應用領域和發展前景。 在目前大規模半導體之電學膜：  在數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜：  在能充分展示和應用各種光學特性的光學膜：  在TFT、LCD平面顯示器上的導電膜及増透膜：  在建築、汽車行業上應用的玻璃膜及裝飾膜：  在包裝領域用防護膜、阻隔膜：  在工具、模具上應用的耐磨超硬膜：  在奈米材料研究方面的各種功能性薄膜： 以上都是真空鍍膜技術及設備在廣泛應用的基礎上得到不斷發展的領域，相信它是永不停止的。 結論 * END ? * * 報告人：Ko-Min * 內容 真空歷史背景 為什麼用真空 真空系統元件介紹 真空鍍膜設備介紹 真空鍍膜產品 目前與未來 * 真空歷史背景 1643---義大利托里切利之水銀管實驗 1654---德國葛瑞克證明大氣的巨大壓力，馬德堡半球 1662---英國波以爾定律 1879---瑞士白努力定律 1835---化學濕式法澱積了銀鏡膜，它們是世界上最早的光學薄膜 1905---德國蓋德機械幫浦 1936---油擴散幫浦 * 取得真空環境後可產生大氣中沒有的新現象 提高電熱絕緣性能→保溫瓶 延長粒子飛行路徑→陰極射線管 去除周圍氣體屏障→真空冷凍乾燥 減少有害氣體作用→電燈泡 高速佈滿物體表面→鍍膜(約mm2/s 有105個分子；10-1pa只要幾百分之一秒) 為什麼用真空? * * 真空鍍膜技術應用 手機業－ 手機機殼、按鍵、屏幕、EMI… 電腦業－ EMI、裝飾… 印刷電路板－ BGA、軟性基板… 製鞋業－ Clean、裝飾… 被動元件－ 晶片電阻… 汽車業－ 車燈、裝飾… 模具業－ 抗沾黏、耐磨耗… 光電業－ LCD、OLED、Solar、Touch Panel… 其它－ 半導體、刀工具、光學鏡片… 真空鍍膜設備應用 薄膜沉積 (Thin Film Deposition) 物理氣相沉積 PVD 化學氣相沉積 CVD 蒸鍍 離子鍍 濺鍍 熱反應CVD 電漿輔助CVD 熱電阻蒸鍍 電子束蒸鍍 直流濺鍍 射頻濺鍍 大氣壓CVD 低壓CVD * * 如何抽真空 真空腔體 高真空Pump 粗抽Pump MV (主閥) RV(粗抽閥) FV (前級閥) Vent (破真空閥) LVG (低真空計) HVG (高真空計) ATM大氣感測器 BG (製程真空計) 粗抽pump - RP+BP (油式迴轉pump+魯式pump) - Dry pump+BP (乾式pump) 高真空pump - Turbo Molecular pump (渦輪分子pump) - Cryo pump (冷凍pump) - Diffusion Pump (擴散pump) 真空系統元件介紹 * 粗抽PUMP * 高真空PUMP * 真空計 * 真空閥門 * 電源供應器：DC/ RF/ MF * 真空設備介紹 * * 批次式(batch type)濺鍍系統 批次式(batch type)濺鍍系統 * 連續式(立式In-line)濺鍍系統 * 連續式(臥式In-line)濺鍍系統 * Cluster * Cluster * Cluster * CVD Furnace * 電漿 * 真空鍍膜產品 * * Thin Film in LCD TFT ITO AR Coating BM ????????????????????????????????????????????????????????????? ????????????????????????????????????????????????????????????? ????????????????????????????????? ??????????? OLED * 太陽能電池 ITO or TO or ZnO glass p-type a-Si a-Si n-type a-Si Al glass hv Sputter/LPCVD PECVD Sputter * LED * *